Nanotrac wave納米粒度及Zeta電位分析儀的儀器簡介：
納米粒度測量——動態(tài)光背散射技術(shù)
隨著顆粒粒徑的減小緊密協作，例如分子級別的大小，顆粒對光的散射效率急劇降低線上線下，使得經(jīng)典動態(tài)光散射技術(shù)的自相關(guān)檢測（PCS）變得更加不確定發揮重要作用。40多年來，Microtrac公司一直致力于激光散射技術(shù)在顆粒粒度測量中的應(yīng)用數據顯示。作為行業(yè)的先鋒高質量，早在1990年，超細顆粒分析儀器 UPA（Ultrafine Particle Analyzer）研發(fā)成功記得牢，*引入由于顆粒在懸浮體系中的布朗運動而產(chǎn)生頻率變化的能譜概念註入了新的力量，快速準確地得到被測體系的納米粒度分布。2001年更多可能性，利用背散射（Back-scattered）和異相多譜勒頻移（Heterodyne Doppler Frequency Shifts）技術(shù)去創新，結(jié)合動態(tài)光散射理論和*的數(shù)學(xué)處理模型，NPA150/250將分析范圍延伸至0.8nm-6.5μm,樣品濃度更可高達百分之四十共謀發展，基本實現(xiàn)樣品的原位檢測學習。異相多普勒頻移技術(shù)采用可控參考穩(wěn)定頻率結構重塑，直接比照因顆粒的布朗運動而產(chǎn)生的頻率漂移，綜合考慮被測體系的實時溫度和粘度應用優勢，較之于傳統(tǒng)的自相關(guān)技術(shù)先進水平，信號強度高出幾個數(shù)量級。另外全面展示，新型“Y”型梯度光纖探針的使用，實現(xiàn)了對樣品的直接測量深刻認識，*的減少了背景噪音核心技術，提高了儀器的分辨率。
Zeta電位測量：
美國麥奇克有限公司（Microtrac Inc.）以其在激光衍射/散射技術(shù)和顆粒表征方面的獨到見解主動性，經(jīng)過多年的市場調(diào)研和潛心研究創造性，開發(fā)出一代Nanotrac wave微電場分析技術(shù)，融納米顆粒粒度分布與Zeta電位測量于一體道路，無需傳統(tǒng)的比色皿規模設備，一次進樣即可得到準確的粒度分布和Zeta電位分析數(shù)據(jù)。與傳統(tǒng)的Zeta電位分析技術(shù)相比指導，Nanotrac wave采用*的“Y”型光纖探針光路設(shè)計競爭力，配置膜電極產(chǎn)生微電場，操作簡單進一步完善，測量迅速集聚，無需精確定位由于電泳和電滲等效應(yīng)導(dǎo)致的靜止層，無需外加大功率電場調整推進，無需更換分別用于測量粒度和Zeta電位的樣品池狀況，*消除由于空間位阻（不同光學(xué)元器件間的傳輸損失，比色皿器壁的折射和污染機製，比色皿位置的差異全過程，分散介質(zhì)的影響，顆粒間多重散射等）帶來的光學(xué)信號的損失探討，結(jié)果準確可靠不負眾望，重現(xiàn)性好。

Nanotrac wave納米粒度及Zeta電位分析儀的技術(shù)參數(shù)：