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jpg資料簡介
勻膠機是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上有很大提升空間,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設(shè)備激發創作,膜的厚度取決于勻膠機的轉(zhuǎn)速和溶膠的黏度前景。
概述
該設(shè)備主要用于晶片涂光刻膠,有自動增幅最大、手動和半自動三種工作方式共享應用。
送片盒中的晶片,自動送到承片臺上標準,用真空吸附示範推廣,在主軸電機的帶動下旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速100-9900轉(zhuǎn)/分(±10轉(zhuǎn)/分)大面積,起動加速度可調(diào)積極參與。每道程序的持續(xù)時間,轉(zhuǎn)速培養、加速度交流研討、烘烤溫度、烘烤時間形式、預(yù)烘時間等工藝參數(shù)均可通過編程控制建設應用。
勻膠機有一個或多個滴膠系統(tǒng),可涂不同品種的光刻膠日漸深入。滴膠的方式有晶片靜止或旋轉(zhuǎn)滴膠動力。隨著晶片尺寸的增大,出現(xiàn)了多點滴膠或膠口移動式滴膠互動式宣講。膠膜厚度一般在500-1000nm效高性,同一晶片和片與片間的誤差小于±5nm。滴膠泵有波紋管式和薄膜式兩種自動化,并有流量計進行恒量控制提升。對涂過膠的晶片有上下刮邊功能,去掉晶片正反面多余的光刻膠不折不扣。
烘烤工位支撐能力,有隧道式遠紅外加熱資源優勢,微波快速加熱以及電阻加熱的熱板爐等。涂膠后的晶片要按一定的升溫速率進行烘干特征更加明顯。烘烤過程在密封的爐子中進行估算,通過抽真空排除揮發(fā)出來的有害物質(zhì)。前烘結(jié)束后方便,將晶片送入收片盒內(nèi)基礎上。
主軸轉(zhuǎn)速的穩(wěn)定性和重復(fù)性是決定膠膜厚度均勻性和一致性的關(guān)鍵,起動加速度的大小是決定是否能將不同粘稠度的光刻膠甩開并使膠均勻的決定因素知識和技能。
選購技巧
從其原理來說取得顯著成效,可以看出選購勻膠機需要注意的幾個細節(jié)
旋轉(zhuǎn)速度
轉(zhuǎn)速的快慢和控制精度直接關(guān)系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標示的轉(zhuǎn)速和電機的實際轉(zhuǎn)速誤差很大實現,對于要求涂覆的科研人員來說是無法獲得準確的實驗數(shù)據(jù)的不容忽視。國產(chǎn)的某些勻膠機只能提供轉(zhuǎn)速范圍,并不能精確標定實時的轉(zhuǎn)速服務體系。
材質(zhì)的選擇
對于半導(dǎo)體化工行業(yè)的應(yīng)用來說說服力,材質(zhì)的選擇尤為關(guān)鍵,大部分勻膠機采用的是不銹鋼或者普通塑料材質(zhì)分析,因為這種材質(zhì)的成本很低表示,不銹鋼的對于各類化工膠液的抗腐蝕性不太好,塑料對于較高溫度和壓力下易產(chǎn)生變形非常激烈。如果這種變形引起托盤的位置失去水平的話競爭力所在,將會導(dǎo)致旋涂時,時高時低的顛簸狀態(tài)領域。
旋轉(zhuǎn)涂覆
旋轉(zhuǎn)涂覆所使用的設(shè)備是勻膠機溝通機製。勻膠機有很多種稱謂,又稱甩膠機註入新的動力、勻膠臺領先水平、旋轉(zhuǎn)涂膠機、旋轉(zhuǎn)涂膜機雙重提升、旋轉(zhuǎn)涂層機戰略布局、旋轉(zhuǎn)涂布機、旋轉(zhuǎn)薄膜機表現明顯更佳、旋轉(zhuǎn)涂覆儀狀態、旋轉(zhuǎn)涂膜儀、勻膜機指導,總的來說基石之一,他們原理都是一樣的,即在高速旋轉(zhuǎn)的基片上增持能力,滴注各類膠液共同努力,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同影響,也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān)新的動力。
從其原理來說,勻膠機有以下兩個特點發展契機。
(1)旋轉(zhuǎn)速度
轉(zhuǎn)速的快慢和控制精度直接關(guān)系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性廣泛關註。如果標示的轉(zhuǎn)速和電機的實際轉(zhuǎn)速誤差很大。
(2)真空吸附系統(tǒng)
真空泵一般采用無油泵發力,即通常說的干泵優勢領先,因為任何的油污都可能堵塞真空管道,如果真空吸附力降低共創美好,會導(dǎo)致基片吸附不住而產(chǎn)生"飛片"的情況推動並實現,還會讓滴的膠液不慎進入真空管道系統(tǒng)造成堵塞。有的勻膠機通過聯(lián)動機制覆蓋範圍,當真空吸附力不夠時不會開始旋轉(zhuǎn)優化程度。這樣可有效避免滴的膠液不慎進入真空管道系統(tǒng)。
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