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高溫氫致(HTHA)缺陷超聲檢測解決方案

來源: 奧林巴斯(中國)有限公司    2020年10月12日 13:26  
  高溫氫致(HTHA)缺陷在高溫高壓氫氣環(huán)境中出現(xiàn)高質量,如:熱交換器提供了有力支撐、管道和壓力容器中。這種缺陷主要發(fā)生在焊縫的熱影響區(qū)(HAZ)前景。自由氫會滲入到鋼合金的晶粒之間意見征詢,并與碳元素結(jié)合,終產(chǎn)生脫碳甲烷孔隙大大提高。
 
  如果沒有足夠早地發(fā)現(xiàn)高溫氫致(HTHA)缺陷,孔隙的數(shù)量就會增加再獲,且合并在一起產品和服務,并終形成裂紋。為了避免設(shè)備發(fā)生潛在的故障體驗區,在這些裂紋形成之前增多,探測到高溫氫致缺陷至關(guān)重要。
 
  高溫氫致(HTHA)孔隙在早期階段非常細(xì)小有望,以至于無法被標(biāo)準(zhǔn)的超聲探頭探測到進一步推進。超聲檢測人員需要使用更高的頻率、更強(qiáng)的聚焦方案、更高的增益應用的選擇,以及優(yōu)質(zhì)信噪比(SNR),才能探測到這類缺陷左右。
 
  奧林巴斯研制了一種于探測早期階段高溫氫致(HTHA)損傷的探頭背景下。用于檢測高溫氫致缺陷的解決方案包括雙晶線性陣列(DLA)探頭和相控陣(PA)探頭,DLA探頭使用一發(fā)一收技術(shù)進(jìn)行檢測可靠保障,而PA探頭經(jīng)過微調(diào)可以進(jìn)行全聚焦方式(TFM)檢測自然條件。這些檢測方法與TOFD篩查結(jié)合起來,形成了一套完整的多技術(shù)檢測策略開展。
 
  使用雙晶陣列探頭探測和定義更小的高溫氫致(HTHA)孔隙
 
  奧林巴斯的雙晶線性陣列(DLA)探頭具有高頻性能互動互補,可以提供更高的分辨率,從而有助于提高微小缺陷的檢出率意向,如:高溫氫致(HTHA)缺陷意料之外。雙晶線性陣列(DLA)探頭使用一發(fā)一收技術(shù)。這種探頭的兩個晶片陣列分開放置開展面對面,并具有聲學(xué)隔離特性系統,一個晶片陣列用于發(fā)射聲束,另一個用于接收信號進一步提升。這種配置可以使用更高的增益空間廣闊,而且不會出現(xiàn)脈沖回波技術(shù)通常會遇到的干擾回波營造一處。雙晶陣列中裝配有大量的小晶片,有助于確保在關(guān)注區(qū)域內(nèi)獲得優(yōu)異的聚焦性能和很高的靈敏度知識和技能。
 
  用于角度聲束檢測的A28 DLA探頭
 
  A28探頭的多個小晶片(各含32個晶片的兩個陣列)有助于提高聲束的偏轉(zhuǎn)能力取得顯著成效,從而可使聲束覆蓋到焊縫體積的更大區(qū)域和熱影響區(qū)(HAZ)。探頭上有一個樞軸鉸鏈裝置實現,可使發(fā)射晶片和接收晶片盡可能互相靠近規劃,以擴(kuò)大聲束以電子方式聚焦的范圍。樞軸裝置還可使兩個晶片陣列更緊密地貼附在楔塊的屋頂角上可以使用。
 
  可以進(jìn)行快速零度檢測的REX1 DLA探頭
 
  這些含有64個晶片的雙晶探頭在與一個編碼器或掃查器配套使用時進入當下,可以0角度覆蓋30毫米寬的區(qū)域,完成快速掃查效高化,并獲得清晰的C掃描圖像新體系。雙晶相控陣技術(shù)可以在不同的深度上聚焦,獲得更高的檢測和定義能力創造。用戶可以直接在OmniScan X3探傷儀上選擇用于聚焦聲束的晶片數(shù)量不難發現,進(jìn)一步提高關(guān)注區(qū)域中的信號響應(yīng)能力。探頭的創(chuàng)新型防磨穩(wěn)定裝置可以緊密地貼合在外徑小至101.6毫米的管道表面上設備製造。
 
  提供全聚焦方式(TFM)的OmniScan X3相控陣探傷儀
 
  雖然與傳統(tǒng)的相控陣超聲檢測技術(shù)(PAUT)相比發展需要,全聚焦方式(TFM)成像功能可以提供更大的聚焦區(qū)域,但是TFM的聚焦性能仍然會受到探頭晶片數(shù)量管理、頻率顯示、帶寬和有效孔徑大小的影響。使用數(shù)量更多新型儲能、體積更小的晶片創新能力,可以更進(jìn)一步提高聚焦效果,從而可優(yōu)化來自高溫氫致(HTHA)缺陷的響應(yīng)範圍。此外求得平衡,為了提高探測較小缺陷的能力,我們需要更短的波長空間廣闊,因此要使用更高的頻率至關重要。
 
  由于盡早探測到高溫氫致(HTHA)缺陷至關(guān)重要,因此通常會使用多種方法進(jìn)行檢測服務品質,以增加探測到高溫氫致缺陷的幾率的發生。實踐證明衍射時差(TOFD)、全矩陣捕獲(FMC)和雙晶線性陣列(DLA)采集方法可以特別有效地完成這項檢測應(yīng)用影響。OmniScan X3探傷儀不僅*支持這些方法新的動力,而且其創(chuàng)新型全聚焦方式(TFM)成像功能及一些軟件工具還可以簡化設(shè)置和分析過程。
 
  OmniScan X3探傷儀集成有DLA探頭配置發展契機,可提供實時TFM包絡(luò)廣泛關註、高分辨率TFM圖像(1024 × 1024點)和64晶片全聚焦方式(TFM)擴(kuò)展孔徑促進進步,是一款可與這些優(yōu)化的探頭組合在一起,創(chuàng)建一套完整的高溫氫致(HTHA)缺陷檢測解決方案的理想儀器能運用。
 
  盡早探測到高溫氫致(HTHA)損傷有助于避免石油達到、天然氣和石化設(shè)施的關(guān)鍵性高壓資產(chǎn)出現(xiàn)災(zāi)難性的故障。對資產(chǎn)狀況進(jìn)行評估至關(guān)重要不可缺少,不過要探測并評估高溫氫致(HTHA)缺陷蓬勃發展,包括以超聲(UT)方式進(jìn)行的檢測,非常具有挑戰(zhàn)性積極回應。奧林巴斯推出的高溫氫致(HTHA)缺陷檢測解決方案重要性,可以有效應(yīng)對這些挑戰(zhàn)。

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