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【儀器網(wǎng) 使用手冊】X熒光分析儀定量分析時通過將測得的特征X射線熒光光譜強度轉(zhuǎn)換為濃度多種，在轉(zhuǎn)換過程中會受到儀器的校正因子、測得的待測元素X射線熒光強度充分發揮、樣品的物理形態(tài)等因素的影響發展成就。制定定量分析方法時需要考慮很多因素。
X光管的高壓和電流選擇
對于不同的X射線管重要方式，所選用的電壓和電流是不同的開展面對面。如端窗靶X射線管，高壓電源供給X射線管的電壓和電流為60kV和125mA非常重要。
設置的X射線管高壓和電流的乘積不能超過譜儀給出的總功率進一步提升。且譜儀推薦的電流和電壓是根據(jù)元素而定的，而不是根據(jù)實際試樣而定的認為。因此在選擇高壓時系統，設定值必須大于待測元素的激發(fā)電位。
角度的校正重要意義、背景的扣除和計數(shù)時間的確定
角度的選擇取決于待測元素所選的譜線和晶體交流等。盡可能使所選譜線避免基體中其他元素的譜線的干擾更加廣闊。
背景產(chǎn)生的原因有：
樣品引起的，原級X射線譜在樣品中產(chǎn)生散射線提高，其強度隨樣品成分變化而變化或是被測譜線附件存在譜線干擾可以使用；
由于樣品產(chǎn)生的射線和儀器相互作用引起的，如晶體熒光和分光晶體引起的高次線等紮實。
背景對微量元素的檢測限和準確度均有較大影響效高化。背景校正方法有理論背景校正法、實測背景扣除法等進行培訓。
脈沖高度分析器
晶體在衍射時可能產(chǎn)生晶體熒光發展機遇、某些元素的高次線或高次線的逃逸峰、待測元素本身產(chǎn)生的逃逸峰法治力量，這些信號所產(chǎn)生的電脈沖如不處理均影響分析結(jié)果的準確度全技術方案。對此，我們可以利用PHD消除晶體熒光的影響以及高次線的干擾共享，同時還可以通過設置兩個PHD上信息化、下閾消除高次線逃逸峰的干擾。
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展會城市：佛山市展會時間：2025-05-21