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【中國儀器網(wǎng) 使用手冊】X射線熒光分析(XRF)——是對任何種類的樣品進行元素分析的好分析技術(shù),無論必需分析的樣品是液體紮實、固體還是粉末效高化。XRF可以將高的準確度和精密度與簡單和快速的樣品準備結(jié)合,對鈹 (Be) 到鈾 (U) 的元素喜遷分析投入力度,濃度范圍從 100 % 到低至亞 ppm 級創造。
作為一種確定各種材料化學組成的一種分析方法,XRF的被測材料可以是固體貢獻法治、液體設備製造、粉末或其它形式。XRF還可測定鍍層和薄膜的厚度及成分共享。XRF具有分析速度快信息化、準確度高、不破壞樣品及樣品前處理簡單等特點生動。應用范圍廣泛新型儲能,涉及金屬創新能力、水泥、油品範圍、聚合物廣度和深度、塑料、食品以及礦物引領作用、地質(zhì)和環(huán)境等領(lǐng)域加強宣傳,在醫(yī)藥研究方面,XRF也是一種非常有用的分析方法用的舒心。
X熒光光譜儀可分為能量色散(EDXRF)和波長色散(WDXRF)兩大類技術發展,隨后將詳細介紹〖??煞治龅脑丶皺z測限主要取決于所用的光譜儀系統(tǒng)重要手段。EDXRF分析的元素從Na到U; WDXRF分析的元素從Be到U穩定性。濃度范圍從ppm到100%像一棵樹。通常重元素的檢測限優(yōu)于輕元素。
XRF分析的精密度和重現(xiàn)性很高去突破。若有合適的標準能運用,分析的準確度非常高,當然沒有標準時也可以分析智能設備。測量時間取決于待測的元素數(shù)目和要求的精度不可缺少,在幾秒至30分鐘間變動。測量后的數(shù)據(jù)處理時間只需幾秒鐘喜愛。
在XRF中重要的角色,樣品受光源產(chǎn)生的X射線照射。通常向好態勢,這種光源是一種X光管平臺建設。樣品中存在的元素發(fā)射出能量不同(分立)的標征這些元素的熒光X射線輻射(相當于可見光不同的顏色)。不同的能量相當于不同的顏色貢獻力量。通過測定樣品發(fā)射的輻射能量(決定顏色)就可以確定樣品中存在那些元素使用,此步即稱為定性分析。通過測定能量的強度可以知道元素的含量發行速度,這就是定量分析更加堅強。
特征X熒光射線的產(chǎn)生
經(jīng)典的原子模型中,原子是由原子核和核外電子組成性能,原子核由帶正電的質(zhì)子和不帶電的中子組成初步建立,核外電子分布在一定的軌道上,內(nèi)層稱K層供給,往外依次為L層要素配置改革、M層等體系,L層又分為LⅠ、LⅡ和LⅢ三個子殼層帶動產業發展,M層分為MⅠ責任製、MⅡ、MⅢ倍增效應、MⅣ和MⅤ五個子殼層規則製定。K層有2個電子,L層有8個優化服務策略,M層有18個關規定。一個電子所具有的能量取決于它所屬的元素及所處的殼層。當采用能量足夠高X光子和電子輻照原子時明顯,就會從原子中逐出電子安全鏈。
注意XRD與XRF波長色散的區(qū)別和聯(lián)系,XRF分光晶體即為XRD的樣品創新為先,也就是說晶格常數(shù)是已知的。
1科普活動,用途不同創新延展。XRD是x射線衍射光譜,(X-ray diffraction analysis)是用于測定晶體的結(jié)構(gòu)的長期間,而XRF是x射線熒光發(fā)射譜基本情況,(X-ray fluorescence analysis)主要用于元素的定性、定量分析的高端化,一般測定原子序數(shù)小于Na的元素力量,定量測定的濃度范圍是常量、微量提單產、痕量深入實施。
2,原理上的差別發展空間。XRD是以X射線的相干散射為基礎(chǔ)效果,以布拉格公式2d sinθ=nλ、晶體理論足了準備、倒易點陣厄瓦爾德圖解為主要原理的合作關系;
XRF則是以莫斯萊定律(1/λ)1/2=k(Z-S),k,S是與線性有關(guān)的常數(shù)深刻內涵。因此結構,得出不同元素具有不同的X射線(即特征線)為基礎(chǔ)對元素定性、定量分析的貢獻。布拉格方程是結(jié)構(gòu)分析的基本和重要的公式 規模最大。
X射線是原子內(nèi)層電子在高速運動電子的轟擊下躍遷而產(chǎn)生的光輻射穩中求進,主要有連續(xù)X射線和特征X射線兩種。晶體可被用作X光的光柵成效與經驗,這些很大數(shù)目的粒子(原子適應性、離子或分子)所產(chǎn)生的相干散射將會發(fā)生光的干涉作用,從而使得散射的X射線的強度增強或減弱稍有不慎。由于大量粒子散射波的疊加重要作用,互相干涉而產(chǎn)生大強度的光束稱為X射線的衍射線。滿足衍射條件最為顯著,可應用布拉格公式:2dsinθ=nλ
應用已知波長的X射線來測量θ角尤為突出,從而計算出晶面間距d,這是用于X射線結(jié)構(gòu)分析環境;另一個是應用已知d的晶體來測量θ角空間載體,從而計算出特征X射線的波長,進而可在已有資料查出試樣中所含的元素相對簡便。
另一種能量色散EDS的熒光法常與掃描電鏡聯(lián)用
EDS是半定量分析重要組成部分,誤差一般在5%~10%左右,是自動判斷出元素后需要根據(jù)樣品合作,人為的添加或去除某些不可能存在的元素勃勃生機,如果元素一點都沒有顯示也是0,這個還是具有一點的參考值極致用戶體驗,EDS是利用電子激發(fā)原子內(nèi)層電子產(chǎn)生空位提供有力支撐,更高原子能級電子躍遷產(chǎn)生特征X射線,從而進行元素分析建議。特征X射線的強度與很多因素有關(guān)品率,比如表面含量、電離截面不斷發展、X射線產(chǎn)率等積極影響,特征X射線的產(chǎn)生與俄歇電子的產(chǎn)生是競爭關(guān)系,與元素的原子序數(shù)有關(guān)集成,隨著原子序數(shù)的減少重要手段,俄歇電子的產(chǎn)率增加,而特征X射線的產(chǎn)率降低更加廣闊,當原子序數(shù)=19(即K元素)時損耗,俄歇電子的產(chǎn)率是90%,相應的特征X射線的產(chǎn)率=10%非常完善,因此性能穩定,EDS適用于對于檢測原子序數(shù)較大的元素比較準確,而在原子序數(shù)較小的元素的檢測對儀器作用、操作條件以及樣品等的要求就很高情況正常。
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