移動端
直播推薦
回放
回放
未來展望：LIBS-Mapping在科研與工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用潛能
近期先進的解決方案，卓立漢光研發(fā)的LIBS-Mapping系統(tǒng)緊張調(diào)試中拓展。本套系統(tǒng)在自動聚焦的功能加持下使得2D和3DMapping都更加的精準(zhǔn)，同時還可以升級RamanMapping與顯微共焦RamanMapping信息，實(shí)現(xiàn)原子光譜與分子光譜的雙模式測量相關，在半導(dǎo)體、礦石在線檢測豐富內涵，工業(yè)分選生產效率、考古等領(lǐng)域有著廣闊的應(yīng)用前景。
圖1.系統(tǒng)架構(gòu)圖
圖2.系統(tǒng)調(diào)試圖
01 什么是 LIBS適應性？
LIBS（Laser Induced Breakdown Spectroscopy）即激光誘導(dǎo)擊穿光譜技術(shù)節點，是一種先進(jìn)的原子發(fā)射光譜技術(shù)總之，利用短激光脈沖在樣品表面產(chǎn)生微等離子體，通過分析等離子體發(fā)出的光譜來識別和量化樣品中的元素支撐作用。近年來隨著LIBS技術(shù)在定量與定性分析研學體驗、易用性、應(yīng)用數(shù)據(jù)積累等多個方面的發(fā)展最為突出，LIBS在科學(xué)研究落實落細、工業(yè)生產(chǎn)、環(huán)境保護(hù)等領(lǐng)域取得了突破高效化，逐漸展現(xiàn)其廣闊的應(yīng)用前景製高點項目。
表1. LIBS技術(shù)與應(yīng)用介紹
通過這些特點(diǎn)可以看出，LIBS技術(shù)的核心優(yōu)勢在于快速範圍和領域、全面的在線元素檢測能力有所增加，尤其適合需要快速反饋和遠(yuǎn)程操作的應(yīng)用場合。
02 多場景 LIBS 解決方案
在關(guān)鍵儀器減少對國外技術(shù)的依賴更高要求，確保在關(guān)鍵領(lǐng)域擁有自主可控的能力的大背景下越來越重要的位置，卓立漢光立足于本土研發(fā)體系，針對科學(xué)研究及工業(yè)客戶的具體需求共同學習，推出了LIBS系列產(chǎn)品主要包括：
實(shí)驗(yàn)室版LIBS：助力教育與快速樣品分析
科研版LIBS：助力科研實(shí)驗(yàn)
在線式LIBS：助力工業(yè)現(xiàn)場
LIBSMapping+RamanMapping雙模式系統(tǒng)
顯微LIBSMapping+RamanMapping雙模式系統(tǒng)：助力高*材料研究
原位LIBS系統(tǒng)：分為遠(yuǎn)程與高分辨兩種模式順滑地配合，助力特殊原位場合應(yīng)用
▲點(diǎn)擊查看LIBS系列產(chǎn)品
本系列產(chǎn)品的特點(diǎn)與優(yōu)勢如下：
自帶自動對焦系統(tǒng)，適用于崎嶇不平的樣品例如巖石和礦石等
有顯微效高，遠(yuǎn)程前沿技術，真空原位三類模式可以供選擇
可以在共聚焦Raman系統(tǒng)的基礎(chǔ)上集成顯微LIBS，也可以在LIBS系統(tǒng)的基礎(chǔ)上升級RamanMapping性能，實(shí)現(xiàn)雙模式測試
可以實(shí)現(xiàn)3DMapping測試多種方式，對于不同厚度的樣品進(jìn)行層析
可以采用Visualspectra軟件進(jìn)行元素分析
強(qiáng)大的軟件操作功能
圖3. 軟件界面展示
圖4. 側(cè)視圖
卓立漢光始終致力于光譜分析技術(shù)的創(chuàng)新與產(chǎn)業(yè)化，為科研實力增強、工業(yè)等領(lǐng)域提供國產(chǎn)化檢測解決方案體系流動性。如需了解 LIBS 系統(tǒng)詳情或定制化服務(wù)，歡迎咨詢重要工具。
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源：儀器網(wǎng)”的所有作品積極拓展新的領域，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品，未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載更優質、摘編或利用其它方式使用上述作品相對開放。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的，應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用脫穎而出，并注明“來源：儀器網(wǎng)”拓展應用。違反上述聲明者，本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任結構。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源（非儀器網(wǎng)）的作品管理，目的在于傳遞更多信息優化上下，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對其真實(shí)性負(fù)責(zé)，不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任模樣。其他媒體生產體系、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源很重要，并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任能力和水平。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題異常狀況，請?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系研究，否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
浙公網(wǎng)安備 33010602002722號
第四屆全國光譜大會
展會城市：株洲市展會時間：2025-05-08