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LIBS 技術(shù)中卓立漢光自制光譜儀和IsCMOS 的性能優(yōu)勢(shì)與應(yīng)用探索

來(lái)源: 北京卓立漢光儀器有限公司    2024年12月30日 11:41  

激光誘導(dǎo)擊穿光譜(Laser-induced breakdown spectroscopy,簡(jiǎn)稱LIBS)作為一種近年來(lái)隨著激光及光譜學(xué)技術(shù)的發(fā)展而快速興起的新型光學(xué)元素分析技術(shù)倍增效應,具有快速實(shí)時(shí)規則製定、可原位檢測(cè)及可遠(yuǎn)程測(cè)量等優(yōu)勢(shì),被譽(yù)為“未來(lái)化學(xué)分析之星”優化服務策略。

其基本原理為當(dāng)高能量的激光脈沖聚焦到樣品表面時(shí)關規定,會(huì)使樣品表面的物質(zhì)瞬間蒸發(fā)、電離更讓我明白了,形成高溫迎難而上、高密度的等離子體。這個(gè)等離子體包含了樣品中各種元素的離子和電子探索,這些離子和電子會(huì)在極短的時(shí)間內(nèi)(一般在微秒級(jí))發(fā)生復(fù)合和躍遷等過(guò)程堅持先行,從而發(fā)射出具有特定波長(zhǎng)的光子。這些光子的波長(zhǎng)與等離子體中元素的種類有關(guān)滿意度,不同元素會(huì)發(fā)射出不同波長(zhǎng)的光情況較常見,形成特征光譜。LIBS是通過(guò)分析其特征發(fā)射光譜來(lái)分析樣品物性的一種表征手段機製性梗阻。

在 LIBS 技術(shù)的發(fā)展過(guò)程中機製,探測(cè)器的性能對(duì)于整個(gè)系統(tǒng)的探測(cè)能力起著至關(guān)重要的作用。IsCMOS作為一種先進(jìn)的探測(cè)器集成應用,其時(shí)間分辨和光子增益功能為 LIBS 技術(shù)帶來(lái)了顯著的性能提升探討,使其能夠采集混合在連續(xù)背景中的瞬態(tài)微弱信號(hào),更好地滿足各種復(fù)雜分析任務(wù)的需求高效流通。

大連理工大學(xué)等離子體學(xué)科研究中心依托于大連理工大學(xué)物理學(xué)院調解製度、等離子體物理國(guó)家重點(diǎn)學(xué)科、三束材料改性教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室功能,致力于磁約束核聚變壁材料LIBS應(yīng)用研究和激光燒蝕基本物理研究應用的因素之一。是國(guó)內(nèi)率*開(kāi)展先進(jìn)光譜等離子體診斷研究的團(tuán)隊(duì)之一,發(fā)展了多種激光光譜診斷平臺(tái)預期,如激光誘導(dǎo)擊穿光譜技術(shù)(LIBS)敢於監督、激光誘導(dǎo)熒光光譜技術(shù)(LIF)、激光湯姆遜散射技術(shù)(TS)結構、光腔衰蕩光譜技術(shù)(CRDS)重要的作用、激光散斑干涉技術(shù)(LSI)、太赫茲光譜診斷技術(shù)(THz)、飛行時(shí)間質(zhì)譜(TOF)穩中求進,其中多項(xiàng)技術(shù)處于國(guó)內(nèi)*先地位統籌。

李聰,大連理工大學(xué)物理學(xué)院協同控製,副教授振奮起來、博士生導(dǎo)師、大連市先進(jìn)聚變能源重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室副主任利用好、大連市高層次人才“高*人才”勞動精神、大連市“青年科技之星”、中國(guó)博士后基金特別資助獲得者製度保障。參與重大科研項(xiàng)目10余項(xiàng)保供,獲遼寧省自然科學(xué)二等獎(jiǎng)(排二)。在國(guó)際知*期刊發(fā)表SCI論文70余篇(第一/通訊20余篇)進行部署、授權(quán)中國(guó)發(fā)明專*10余項(xiàng)責任、美國(guó)發(fā)明專*1項(xiàng)改革創新。

近日自動化方案,在大連理工大學(xué)等離子體學(xué)科研究中心李聰教授的邀請(qǐng)下更加堅強,將卓立漢光自制的IsCMOS像增強(qiáng)型相機(jī)搭配全新推出的Omni-λ300s“影像譜王”光柵光譜儀應(yīng)用到李聰教授的LIBS系統(tǒng)中最為突出,結(jié)果如下:

Cu原子在delay:200ns信息化,width:5us下的發(fā)射譜線:

img1 

Mo原子在delay:250ns核心技術,width:5us下的發(fā)射譜線:

img2 

上述數(shù)據(jù)利用卓立漢光全新推出的IsCMOS采集實際需求,采用高效超快像增強(qiáng)器更讓我明白了,配合>95%量子效率制冷型IsCMOS相機(jī)和諧共生,可實(shí)現(xiàn)低噪聲質生產力、超快門控拍照。上述特性使其在 LIBS 應(yīng)用中能夠?qū)崿F(xiàn)時(shí)間分辨光譜采集技術交流。

在 LIBS 過(guò)程中先進的解決方案,等離子體的形成和演化是一個(gè)動(dòng)態(tài)過(guò)程,不同時(shí)刻等離子體的溫度創造更多、電子密度等物理參數(shù)以及元素的發(fā)射光譜特征都有所不同宣講活動。通過(guò)精確控制 IsCMOS的門控時(shí)間,可以選擇在等離子體發(fā)射光譜信號(hào)*強(qiáng)工藝技術、干擾最小的特定時(shí)刻進(jìn)行采集效率。例如,在等離子體形成后的極短時(shí)間內(nèi)近年來,可能存在較強(qiáng)的連續(xù)背景輻射講道理,而經(jīng)過(guò)一定時(shí)間延遲后,元素的特征譜線發(fā)射會(huì)更加明顯且背景干擾降低技術先進。IsCMOS能夠根據(jù)這一特性更多的合作機會,靈活設(shè)置門控延遲時(shí)間和門寬作用,獲取不同時(shí)間階段的光譜信息,深入研究等離子體的演化過(guò)程行業分類,進(jìn)而更精準(zhǔn)地分析樣品的元素組成和含量,為 LIBS 技術(shù)在動(dòng)態(tài)過(guò)程監(jiān)測(cè)和瞬態(tài)現(xiàn)象研究等方面提供了有力手段提高鍛煉。

IsCMOS具有超快光學(xué)門寬相結合,<3ns陰極光學(xué)門寬,內(nèi)置精度<10ps門寬控制器製高點項目。下圖為門寬遞進(jìn)10ps掃描納秒光源圖譜為產業發展。

img3 

下圖為延時(shí)遞進(jìn)200ps掃描納秒光源圖譜。

img4 

制冷型IsCMOS有所增加,芯片制冷溫度低于環(huán)境35℃各項要求,有效降低芯片暗噪聲。下圖為IsCMOS*低背景基線越來越重要的位置。

img5

IsCMOS具有2048*2048像素陣列新技術,這使得它能夠在 LIBS 光譜采集過(guò)程中實(shí)現(xiàn)高光譜分辨率。在 LIBS 分析中順滑地配合,不同元素的特征譜線往往非常接近深入,高光譜分辨率能夠清晰地分辨這些譜線,從而準(zhǔn)確地識(shí)別出樣品中所含的各種元素及其含量前沿技術。例如基礎,對(duì)于一些過(guò)渡金屬元素,其相鄰的發(fā)射譜線可能僅有零點(diǎn)幾納米的波長(zhǎng)差多種方式,IsCMOS可以精確地捕捉到這些細(xì)微的差異對外開放,為元素的精確分析提供了有力保障。

下圖為IsCMOS配合卓立全新推出的Omni-λ300S光譜儀深入交流研討,在保證紫外高通光量的前提下資料,在@2400g/nm光柵時(shí)測(cè)試分辨率可達(dá)0.05nm。此外軟件上優(yōu)化了校正算法關註度,多峰譜線波長(zhǎng)校準(zhǔn)堅定不移,校準(zhǔn)后汞燈各峰值精準(zhǔn)度<±0.2nm @1200g/nm。

img6 

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