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Moxtek專為240nm到400nm紫外波段應用設計紫外偏振片，采用特*的納米線柵技術銘記囑托，性能優(yōu)異引領，具有大入射角，寬波長范圍開放以來，耐熱性高占，高透過率，高消光比等特點提供了有力支撐。

產品型號和規(guī)格

技術數據：透過率以及消光比

紫外偏振片主要應用

1.半導體設備應用：

DUV步進器和DUV掃描儀是半導體生產過程中的核心和關鍵單元激發創作。使用波長為248 nm和193 nm的單色紫外線輻射，將結構從光掩模板轉移到襯底上進一步意見。在光刻材料的曝光中增加偏振光可將分辨率提高20%增幅最大。

紫外偏振片也廣泛用在無圖形晶圓光學檢測設備上，實現高精度的缺陷檢測生產能力。

2.紫外線固化

偏振紫外線用于固化高*印刷行業(yè)中使用的紫外線敏感油墨研究成果，使用偏振光可以實現更快的生產速度和更大的產能，從而提高機器和工廠的利用率完善好。

3.光對準Photo Alignment

使用240至300nm范圍內的線性偏振紫外線大面積，可以實現LC顯示器行業(yè)的精確對準，以生成各向異性對準膜問題分析。傳統(tǒng)的摩擦聚酰亞胺會產生灰塵培養、靜電和機械損傷。在不用大面積變動的情況下更加完善，UV偏振光允許極快生成均勻和穩(wěn)定的偏置傾斜角形式。

4.光譜儀

Moxtek UVD260和UVD240偏振片可用于光譜儀，與Glan-Taylor棱鏡相比支撐作用，其小尺寸日漸深入、寬接受角、均勻性和寬波長帶寬特點具備明顯的優(yōu)勢同時，另外相比傳統(tǒng)的Glan-Taylor棱鏡互動式宣講，UVD系列偏振片還具有更高的對比度和透過率，同時支持更大的AOI模式，需要更少的空間自動化，沒有光學像差，厚度僅為2mm左右高品質。