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　　化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)用于研磨半導(dǎo)體晶圓的表面并去除多余的材料新格局。CMP工藝中使用的研磨液既具有機(jī)械特性（研磨），又具有化學(xué)特性服務水平。如果研磨液成分不一致最新，晶圓質(zhì)量就會受到影響技術創新。維薩拉的原位在線折光儀特別適合用于研磨液監(jiān)測處理方法、控制批次間變化、稀釋和混合持續向好，以保障晶圓質(zhì)量和產(chǎn)量習慣。

　　研磨液一致性至關(guān)重要：

　　研磨液密度和成分是CMP工藝質(zhì)量的關(guān)鍵參數(shù)，但又不像始終使用相同的研磨液混合物那么簡單進展情況。制造商以濃縮形式交付研磨液的積極性，并且不同批次的研磨液可能會有所不同綠色化發展。半導(dǎo)體制造廠用去離子水稀釋濃縮研磨液，并添加氧化劑不久前，通常是過氧化氫(H2O2)用上了。這需要在CMP工藝之前完成，因?yàn)镠2O2隨著時間的推移會降解為水和氧氣能力建設。

　　這種降解有一個有限的時間窗口關註，在此期間可以保持一致的表面研磨質(zhì)量并最大限度地減少晶圓缺陷和廢品。為了確保晶圓質(zhì)量無障礙，晶圓廠需要能夠全天連續(xù)監(jiān)測研磨液成分連日來。原位在線折光儀提供了一種簡單且經(jīng)濟(jì)高效的方法來執(zhí)行此監(jiān)測。

　　折光儀可以安裝在以下位置：

　≌J為。?)在供給管線上監(jiān)測進(jìn)入的研磨液和H2O2系統，并確定研磨液稀釋目標(biāo)濃度水平。

　　(2)在研磨液混合罐中實(shí)時控制H2O2的混合重要意義，以確保正確的濃度和混合時間交流等。

　　(3)在CMP工具中，確保研磨液成分在與晶圓接觸之前處于設(shè)定的限度內(nèi)規劃。

　　通過在線折射率(RI)測量獲得實(shí)時結(jié)果:

　　在線折光儀的作用就是測量研磨液的RI數字化。每種混合物都有成分，因此也有RI著力提升，可以使用折光儀進(jìn)行驗(yàn)證和表征深刻內涵。使用在線折光儀進(jìn)行實(shí)時測量，比任何離散采樣方法都能更準(zhǔn)確地反映研磨液成分的變化融合。此外深入闡釋，測量幾乎無漂移，不依賴于流速完成的事情，并且準(zhǔn)確度不受研磨液中氣泡的影響物聯與互聯。

　　一旦根據(jù)特定研磨液的折射率和溫度特性進(jìn)行校準(zhǔn)，RI測量在用于測量諸如銅和鎢研磨液時可以實(shí)現(xiàn)出色的可重復(fù)性改造層面。在線測量優(yōu)于基于實(shí)驗(yàn)室的方法供給，因?yàn)樗鼈兿瞬蓸雍蜆颖咎幚碇幸氲娜魏尾淮_定性，例如H2O2變質(zhì)或溫度變化經驗分享。

　　維薩拉PR-33-S半導(dǎo)體行業(yè)折光儀:

　　維薩拉PR-33-S半導(dǎo)體行業(yè)折光儀專為半導(dǎo)體制造環(huán)境中的在線實(shí)時測量而設(shè)計(jì)解決方案。它體積小，采用不含金屬的特氟龍和藍(lán)寶石接液部件和表面有力扭轉，非常適合測量研磨液和刺激性化學(xué)物質(zhì)上高質量。堅(jiān)固的設(shè)計(jì)保證了長期穩(wěn)定性和長使用壽命，內(nèi)置的診斷功能可即時概覽測量性能廣度和深度。

　　PR-33-S提供直接研磨液密度測量深入交流，集成的溫度傳感器確保高度精確的RI測量引領作用，可承受工藝振動而不會產(chǎn)生測量誤差。由于光學(xué)測量原理和堅(jiān)固的設(shè)計(jì)臺上與臺下，該設(shè)備不會出現(xiàn)測量漂移用的舒心，并且?guī)缀鯚o需維護(hù)。設(shè)備不需要耗材集聚效應，也不產(chǎn)生化學(xué)廢物深入開展，為實(shí)驗(yàn)室采樣和滴定提供了一種經(jīng)濟(jì)高效、可靠且可持續(xù)的替代方案等形式。研究證明技術的開發，維薩拉折光儀的測量結(jié)果與參考滴定的結(jié)果有好的一致性，并且能實(shí)時提供結(jié)果飛躍，可以直接在工藝中使用并且可重復(fù)更高效。