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- 公司名稱 濟(jì)寧恒碩檢測儀器有限公司
- 品牌
- 型號
- 所在地 濟(jì)寧市
- 廠商性質(zhì) 其他
- 更新時間 2024/12/8 8:01:49
- 訪問次數(shù) 1
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商品詳細(xì)介紹提供全聚焦方式(TFM)功能的OmniScanX3相控陣探傷信心滿滿,昭然可見OmniScanX3探傷儀是一款功能齊備的相控陣工具箱
OmniScan X3探傷儀是一款功能齊備的相控陣工具箱推動並實現。這款儀器所提供的性能強(qiáng)大的工具發展成就,如:全聚焦方式(TFM)圖像和高級成像功能提供了有力支撐,可使用戶更加充滿信心地完成檢測。
機(jī)載掃查計劃溝通機製、改進(jìn)的快速校準(zhǔn)和簡化的用戶界面,有助于省去一些不必要的步驟註入新的動力,從而可使用戶在很短的時間內(nèi)完成檢測的設(shè)置工作領先水平。
如果您是OmniScan MX2儀器的用戶,您可以從現(xiàn)有的儀器迅速地過渡到OmniScan X3儀器。如果您還不太了解相控陣超聲檢測或全聚焦方式(TFM)設計能力,您可以通過OmniScan X3探傷儀輕松地學(xué)習(xí)這些知識品牌。
OmniScan X3探傷儀所提供的功能有助于用戶高效地完成檢測工作的發生。這些功能可以在以下應(yīng)用中大顯身手:焊縫檢測、管線和管道的檢測影響、耐腐蝕合金的檢測新的動力、腐蝕成像、高溫氫致缺陷(HTHA)的檢測發展契機、初期裂紋的探測廣泛關註、復(fù)合材料的檢測和缺陷成像。
OmniScan X3儀器的軟件性能強(qiáng)大推動並實現,其簡潔、現(xiàn)代的菜單結(jié)構(gòu)減少了按鍵的次數(shù)覆蓋範圍,改進(jìn)了從開始設(shè)置到最后制作報告的整個檢測過程優化程度,因此無論新老用戶都會得心應(yīng)手地使用這款儀器。
儀器的包絡(luò)處理功能奮勇向前,可以為缺陷生成高清全聚焦方式(TFM)圖像不斷豐富。圖中的缺陷在背景噪聲的襯托下,顯得更為清晰鮮明組建。
在同一個檢測中使用不同的全聚焦方式(TFM)模式(聲波組),使檢測人員更有希望探測到方向異常的缺陷指示顯著。OmniScan X3探傷儀可以最多同時顯示4種模式的全聚焦方式(TFM)圖像快速增長,從而使用戶看到從不同角度生成的圖像。來自每種模式的響應(yīng)和特征性能,如:端部衍射初步建立、圓角凹陷和缺陷剖面,可被綜合在一起進(jìn)行分析,從而可以確認(rèn)缺陷的類型的方法,并提高缺陷定量的性能實事求是。
聲學(xué)影響圖(AIM)工具消除了掃查計劃創(chuàng)建過程中的猜測因素技術創新,因為屏幕上會顯示某個聲波組(TFM模式)的效果圖處理方法,使用戶看到靈敏度消失的位置,并對掃查計劃進(jìn)行相應(yīng)的調(diào)整持續向好。
屏幕上顯示有全聚焦方式(TFM)區(qū)域的相控陣超聲檢測探傷儀
相控陣超聲探傷儀提供機(jī)載掃查計劃創(chuàng)建功能
機(jī)載掃查計劃工具有助于用戶在開始檢測之前觀察到檢測圖像習慣。
OmniScan X3探傷儀雖然保留了OmniScan儀器熟為人知的界面進展情況,但卻減少了設(shè)置和分析所需的步驟的積極性。因此擁有OmniScan X2的用戶可以快速方便地過渡到OmniScan X3的使用,而新的用戶則可以借助OmniScan X3輕松地學(xué)習(xí)檢測知識至關重要。
OmniScan X3校準(zhǔn)菜單可以高速跟蹤信號不久前。檢測人員可以在幾分鐘之內(nèi)簡單輕松地完成多組校準(zhǔn)。
檢測人員正在使用手提電腦上的相控陣檢測軟件
OmniPC軟件為用戶提供一套高級工具提升行動,如:并排顯示視圖的功能能力建設,這種視圖可使用戶在屏幕上比較兩個文件,從而在分析數(shù)據(jù)時更加充分地利用PC機(jī)的性能研究進展。
OmniScan X3的技術(shù)規(guī)格 • 數(shù)據(jù)技術(shù)規(guī)格 • 聲學(xué)技術(shù)規(guī)格 • TFM/FMC • 操作環(huán)境
數(shù)據(jù)技術(shù)規(guī)格
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聲學(xué)技術(shù)規(guī)格
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TFM/FMC
操作環(huán)境
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OmniScan探傷儀長期以來一直被為奧林巴斯相控陣焊縫檢測的主力儀器蓬勃發展。OmniScan X3探傷儀在設(shè)置、成像和分析方面的表現(xiàn)更加出色積極回應,也使焊縫檢測工作更加輕松重要性。
OmniScan X3探傷儀擅長于完成各種焊縫檢測應(yīng)用多元化服務體系,其中包括:
OmniScan X3探傷儀的實時全聚焦方式(TFM)包絡(luò)、高分辨率全聚焦方式(TFM)圖像(1024 × 1024點)明顯,以及64晶片孔徑可為早期的高溫氫致(HTHA)缺陷生成圖像安全鏈,而在高溫氫致缺陷形成的初期探測到缺陷至關(guān)重要。
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