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CEW-2000型半軸熒光磁粉探傷機(jī)

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設(shè)備名稱:CEW-2000型半軸熒光磁粉探傷機(jī)概述:CEW-2000型半軸熒光磁粉探傷機(jī)系機(jī)電一體式半自動(dòng)熒光磁粉探傷設(shè)備核心技術體系,由電源控制系統(tǒng)開拓創新、夾持磁化系統(tǒng)、磁懸液系統(tǒng)必然趨勢、熒光系統(tǒng)等幾大部分組成

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設(shè)備名稱:

CEW-2000型半軸熒光磁粉探傷機(jī)

概述:

CEW-2000型半軸熒光磁粉探傷機(jī)系機(jī)電一體式半自動(dòng)熒光磁粉探傷設(shè)備促進善治,由電源控制系統(tǒng)、夾持磁化系統(tǒng)發展的關鍵、磁懸液系統(tǒng)道路、熒光系統(tǒng)等幾大部分組成。適用于以濕式磁粉法檢測(cè)由鐵磁性材料制成的小型管真諦所在、軸棒類等零件的表面及近表面因鑄造指導、鍛造、加工倍增效應、疲勞等各種原因引起的裂紋和各種細(xì)微缺陷規則製定。

    本設(shè)備采用手動(dòng)、自動(dòng)兩種運(yùn)行方式優化服務策略,由可編程控制器(PLC)集中控制關規定。手動(dòng)時(shí),可進(jìn)行每個(gè)功能的單步獨(dú)立操作兩個角度入手;自動(dòng)時(shí)建強保護,設(shè)備自動(dòng)執(zhí)行PLC內(nèi)部程序,工件上料到位夾緊后生產效率,按啟動(dòng)鍵即可自動(dòng)執(zhí)行轉(zhuǎn)動(dòng)噴淋——磁化——轉(zhuǎn)動(dòng)觀察等一系列動(dòng)作使命責任。周向磁化采用直接通電,縱向磁化采用兩組線圈,具有良好的磁化效果合規意識。復(fù)合磁化在工件上形成旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)密度增加,一次性顯示磁跡,具有較高的工作效率創新內容。

主要技術(shù)參數(shù):

1機遇與挑戰、 周向磁化電流:AC 0-2000A有效值,連續(xù)可調(diào)善於監督;

2集成技術、 縱向磁化磁勢(shì):AC 0-12000AT有效值,連續(xù)可調(diào)更合理,

                    DC 0-6000AT半波兩倍于平均值, 連續(xù)可調(diào)適應能力;

3、 磁化靈敏度:15/50A 1型試片顯示清晰各方面;

4防控、 暫載率:≥30%

5著力提升、 電極間距: 400-1100mm幅度,連續(xù)電動(dòng)可調(diào);

6重要的作用、 工作方式:手動(dòng)貢獻、自動(dòng)運(yùn)行;

7穩中求進、 磁化方式:周向統籌、縱向、復(fù)合磁化協同控製;

8振奮起來、 電極間距調(diào)整方式:電動(dòng);

9利用好、 夾緊方式:氣動(dòng)深入各系統;

10、 退磁方式:自動(dòng)衰減式退磁系列;

11作用、 周向退磁電流:AC 2000-0A,有效值慢體驗,連續(xù)可調(diào)著力增加,

縱向退磁磁勢(shì):AC 12000-0AT,有效值科技實力,連續(xù)可調(diào)處理,

                DC 6000-0AT,平均值,連續(xù)可調(diào)助力各行;

12前來體驗、 交流充退磁效果:≤160A/M0.2mT);

13確定性、 紫外線強(qiáng)度:距光源380mm工件表面處≥1000μW/2建議;

14、 電源:三相四線380V±10% 50HZ      *瞬時(shí)100A相貫通;

15、 外形尺寸:2200(長(zhǎng))×700(寬)×1600(高)mm積極影響;

16自動化方案、 重量:約1000Kg

探傷原理探傷原理:

周向磁化采用直接通電工藝技術,電流沿工件軸向通過(guò)效率,在工件上產(chǎn)生周向磁場(chǎng),假如存在與磁通線相交的裂紋或近表面缺陷近年來,則在裂紋兩側(cè)立即產(chǎn)生NS兩磁極講道理,部分磁通進(jìn)入附近的空間,形成能吸附磁粉和裂紋指示的泄漏磁通場(chǎng)技術先進,由此可檢測(cè)工件上的縱向裂紋更多的合作機會。用線圈法對(duì)工件縱向磁化,產(chǎn)生軸向磁場(chǎng)認為,同理服務好,可檢測(cè)工件上的周向裂紋。同時(shí)施加周向和縱向磁化電流反應能力,即復(fù)合磁化共謀發展,在工件表面和近表面形成交變的旋轉(zhuǎn)的矢量磁場(chǎng),在連續(xù)法探傷檢查時(shí)結構重塑,可檢測(cè)工件表面和近表面各個(gè)方向的裂紋和缺陷聽得懂。



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