等離子體和固體延伸、液體或氣體一樣，是物質(zhì)的一種狀態(tài)服務好，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)新趨勢。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的"活性"組分包括：離子共謀發展、電子凝聚力量、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）聽得進、光子等新的力量。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔便利性、改性全面展示、光刻膠灰化等目的。
清洗原理
等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)深刻認識，通常物質(zhì)以固態(tài)核心技術、液態(tài)應用提升、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在效高，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)前沿技術。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運動狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子性能、分子多種方式、原子團（自由基）；離子化的原子技術創新、分子深入交流研討；未反應(yīng)的分子、原子等廣泛應用，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)關註度。
在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體哪些領域，通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面．以達到清洗目的敢於挑戰。
結(jié)構(gòu)
等離子清洗機的結(jié)構(gòu)主要分為三個大的部分組成，分別是控制單元建立和完善、真空腔體以及真空泵探索。就以下三個部分做一個陳述：
一、控制單元
國內(nèi)使用的等離子清洗機產業，包括國外進口的，控制單元主要分為半自動控制情況較常見、全自動控制可持續、PC電腦控制、液晶觸摸屏控制四種方式體製。
而控制單元又分為兩個大的部分：
1）電源部分：主要電源頻率有三種構建，分別是40KHz、13.56MHz服務延伸、2.45GHz共創輝煌，其中13.56MHz是需要電源匹配器的。
2）系統(tǒng)控制單元：分三種進一步，按鈕控制（半自動大部分、全自動）、電腦控制實際需求、PLC控制（液晶觸摸屏控制）解決方案。
二、真空腔體：
真空腔體主要是分為兩種材質(zhì)的：
1）不銹鋼真空腔體交流。
2）石英腔體基礎。
三提供堅實支撐、真空泵：
真空泵分為兩種：
1）干泵。
2）油泵高產。
優(yōu)勢
一信息化技術、清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序良好≈鸩斤@現？梢蕴岣哒麄€工藝流水線的處理效率；
二單產提升、等離子清洗使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害傳遞，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題；
三勞動精神、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑開展攻關合作，這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法預下達。這在高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性的有效手段；
四、采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同方案。等離子體的方向性不強關鍵技術，這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù)，因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀深入。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似甚至更好技術研究；
五、使用等離子清洗開展研究，可以使得清洗效率獲得極大的提高姿勢。整個清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成，因此具有產(chǎn)率高的特點首要任務；
六綠色化、等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種清洗條件很容易達到發展。因此這種裝置的設(shè)備成本不高保持穩定，加上清洗過程不需要使用價格較為昂貴的有機溶劑，這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝面向；
七動力、使用等離子清洗，避免了對清洗液的運輸互動式宣講、存儲生產效率、排放等處理措施，所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生適應性；
八節點、等離子體清洗可以不分處理對象通過活化，它可以處理各種各樣的材質(zhì)更加廣闊，無論是金屬單產提升、半導(dǎo)體、氧化物機構，還是高分子材料（如聚丙烯大數據、聚氯乙烯長效機製、聚四氟乙烯、聚酰亞胺數字技術、聚酯奮戰不懈、環(huán)氧樹脂等高聚物）都可以使用等離子體來處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)措施。而且還可以有選擇地對材料的整體大大縮短、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進行部分清洗；
九緊密相關、在完成清洗去污的同時更默契了，還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能培訓、改善膜的黏著力等不合理波動，這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。
