◇由于采用了的微處理器和的回波處理技術(shù)基礎，導(dǎo)波雷達(dá)物位計(jì)可以應(yīng)用于各種復(fù)雜工況◇多種過程連接方式及探測(cè)組件的型式，使得列導(dǎo)波雷達(dá)物位計(jì)適于各種復(fù)雜工況及應(yīng)用場(chǎng)合還不大。如：局溫高產、局壓及小介電常數(shù)介質(zhì)等 ◇采用脈沖工作方式，導(dǎo)波雷達(dá)物位計(jì)發(fā)射功率極低力度，可安裝于各種金屬、非金屬容器內(nèi)系統性，對(duì)人體及環(huán)境均無傷害

導(dǎo)播雷達(dá)發(fā)出的高頻微波脈沖沿著探測(cè)組件（鋼纜或鋼棒）傳播勇探新路，遇到被測(cè)介質(zhì)，由于介電常數(shù)突變傳遞，引起反射試驗，一部分脈沖能量被反射回來。發(fā)射脈沖與反射脈沖的時(shí)間間隔與被測(cè)介質(zhì)的距離成正比穩步前行。

容器中存在兩種不同介質(zhì)結構不合理，當(dāng)上面一層的介質(zhì)介電常數(shù)較小，而下面的介質(zhì)介電常數(shù)較大時(shí)逐步改善，高頻微脈沖沿著探測(cè)組件傳播遇到上層介質(zhì)時(shí)意見征詢，由于其介電常數(shù)較小，因而有極少的能量被這一層介面反射大大提高，而大部分能量穿透上層介質(zhì)繼續(xù)向下傳播的必然要求，遇到兩層的介面時(shí)，由于下層介質(zhì)的介電常數(shù)較大取得了一定進展，因而會(huì)有較大的能量被反射回來完善好。因此導(dǎo)波雷達(dá)可以測(cè)量兩種不同介質(zhì)的介面，其測(cè)量條件是上層介質(zhì)不導(dǎo)電或其介電常數(shù)比下層介質(zhì)介電常數(shù)小10以上積極參與。