綜合概述SM280是一款利用利用薄膜反射光干涉原理研制而成的顯微薄膜厚度測繪儀

綜合概述

SM280是一款利用利用薄膜反射光干涉原理研制而成的顯微薄膜厚度測繪儀能力和水平。 它利用波長范圍最寬為最寬200-1700nm的光垂直入射到薄膜表面覆蓋，只要薄膜有一定程度的透射，SM280就能根據(jù)反射回來的干涉光譜擬合計算出薄膜的厚度研究，以及其他光學(xué)常數(shù)如反射率高效、折射率和消光系數(shù)等，其厚度測繪范圍可以達到10nm~100um提高。

SM280自動顯微薄膜厚度測繪儀采用顯微系統(tǒng)機構，可以進一步縮小光斑大小，從而實現(xiàn)非常優(yōu)秀的空間分辨率交流。同時基礎，SM280采用一體化設(shè)計提供堅實支撐，核心器件采用高分辨率、高靈敏度光譜儀和高精度的3軸移動平臺高產，結(jié)合奧譜天成的算法技術(shù)信息化技術，為用戶提供的全新一代的自動顯微薄膜厚度測繪儀。

產(chǎn)品特征

l 非接觸式良好、非破壞性的測試系統(tǒng)逐步顯現；

l 精細光斑，更佳空間分辨率顯著；

l 超長壽命光源快速增長，更高的發(fā)光效率；

l 高分辨率占、高靈敏度光譜儀高質量，測繪結(jié)果更準(zhǔn)確可靠；

l 軟件界面直觀動手能力，操作方便省時逐步改善；

l 集成實時攝像頭，監(jiān)控測量點提升；

l 配備顯微物鏡大大提高，支持檢測小尺寸樣品；

l 測繪速度快研究成果，支持多點測繪點位地圖繪制取得了一定進展；

l 支持繪制樣品2D/3D厚度分布圖；

l 高精度大面積、長壽命的3軸移動平臺積極參與；

l 歷史數(shù)據(jù)存儲，幫助用戶更好掌握結(jié)果培養；

l 桌面式分布設(shè)計交流研討，適用場景豐富；

應(yīng)用領(lǐng)域

基本上所有光滑的形式、半透明的或低吸收系數(shù)的薄膜都可以測繪建設應用，這幾乎包含了所有的電介質(zhì)和半導(dǎo)體材料，包括：

氧化硅日漸深入、氮化層動力、類鉆薄膜、多晶硅互動式宣講、光刻膠效高性、高分子、聚亞酰胺自動化、非晶硅等提升。

l 半導(dǎo)體鍍膜：光刻膠高品質、氧化物、淡化層意料之外、絕緣體上硅重要方式、晶片背面研磨;

l 液晶顯示：間隙厚度、聚酰亞胺系統、ITO透明導(dǎo)電膜;

l 光學(xué)鍍膜：硬涂層、抗反射層進一步提升；

l 微電子系統(tǒng)：光刻膠空間廣闊、硅系膜狀物、印刷電路板改革創新；

l 生物醫(yī)學(xué)：醫(yī)療設(shè)備知識和技能、Parylene

1. SM280的工作原理

當(dāng)入射光穿透不同物質(zhì)的界面時將會有部分的光被反射，由于光的波動性導(dǎo)致從多個界面的反射光彼此干涉新模式，從而使反射光的多波長光譜產(chǎn)生震蕩的現(xiàn)象實現。從光譜的震蕩頻率，我們可以判斷不同界面的距離進而得到材料的厚度（愈多的震蕩代表較大的厚度）組織了，而其他的材料特性如折射率與粗糙度也能同時測量服務體系，如下圖。

奧譜天成充分吸收行業(yè)痛點搶抓機遇、深挖客戶需求分析，傾心打造國內(nèi)的自動薄膜厚度測繪儀-SM280，其由主機光源發(fā)射光線全面闡釋，經(jīng)由Y型光纖照射到被測樣品表面非常激烈。Y型光纖由7根細光纖組成一個梅花狀，外側(cè)6根光纖射出光線引人註目，中間的一根光纖將反射回的干涉光導(dǎo)回到主機內(nèi)部的光譜儀進行測量和計算領域，SM280系統(tǒng)原理見如下圖。

SM280的測繪方式可以是極性好宣講、矩形或線性的註入新的動力，主機內(nèi)置高性能運動控制器賦能可旋轉(zhuǎn)平臺支持多種預(yù)定義測繪方式，配備的上位機軟件支持用戶創(chuàng)建自己的測繪方式而不受測量點數(shù)量的限制新產品，測量結(jié)果支持2D和3D呈現(xiàn)去完善，點位地圖支持的形態(tài)：

*圓形/方形

*放射狀

*中心或邊緣排除

*點位密度