產(chǎn)品類型：能量色散X熒光光譜分析儀
產(chǎn)品名稱：鍍層測(cè)厚儀
產(chǎn)品型號(hào)：XTD-200
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：
XTD-200是一款專用于檢測(cè)各種異形件發展的關鍵，特別是五金類模具道路、衛(wèi)浴產(chǎn)品、線路板以及高精密電子元器件表面處理的成分和厚度分析光譜儀真諦所在。
被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控指導、來料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。
1）搭載微聚焦X射線發(fā)生器和的光路轉(zhuǎn)換聚焦系統(tǒng)充分，最小測(cè)量面積達(dá)0.002mm2
2）擁有無損變焦檢測(cè)技術(shù)進一步完善，手動(dòng)變焦功能，可對(duì)各種異形凹槽件進(jìn)行無損檢測(cè)競爭力，凹槽深度范圍0-90mm
3）核心EFP算法關規定，可對(duì)多層多元素，包括同種元素在不同層都可快兩個角度入手、準(zhǔn)、穩(wěn)的做出數(shù)據(jù)分析（釹鐵硼磁鐵上Ni/Cu/Ni/FeNdB同期，精準(zhǔn)檢測(cè)層Ni和第三層Ni的厚度）
4）配備全自動(dòng)高精密微型移動(dòng)滑臺(tái)生產效率，可實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)位、多樣品的精準(zhǔn)位移和同時(shí)檢測(cè)
5）裝配高效率正比接收器產業，即便測(cè)量0.01mm2以下的樣品滿意度，幾秒鐘也可達(dá)到穩(wěn)定性
6）可同時(shí)分析23個(gè)鍍層，24種元素可持續，測(cè)量元素范圍：氯Cl（17）- 鈾U（92）主要抓手，涂鍍層分析范圍：鋰Li（3）- 鈾U（92），涂鍍層檢出限：0.005μm
7）人性化封閉軟件構建，自動(dòng)判斷故障提示校正及操作步驟創新科技，避免誤操作
8）標(biāo)配4準(zhǔn)直器自由切換，最小測(cè)量面積可達(dá)0.002mm2
9）配有微光聚集技術(shù)共創輝煌，最近測(cè)距光斑擴(kuò)散度小于10%
儀器配置：
1. 微聚焦加強(qiáng)型X射線管：高穩(wěn)定性X射線發(fā)生器
—鈹窗口具有重要意義，油絕緣，氣冷式大部分，輻射安全電子管屏蔽
—50kV強大的功能，1mA，高壓和管流設(shè)定為應(yīng)用程序提供更好的性能
—符合DIN ISO 3497解決方案、DIN 50987和ASTM B 568射線標(biāo)準(zhǔn)優勢，如有特殊要求，也可協(xié)商定制
2. 接收器：高效率正比計(jì)數(shù)管
—窗口面積≥150mm2
3. 光路轉(zhuǎn)換器
—φ0.5mm增產，φ0.2mm便利性，φ0.1mm，φ0.05mm四準(zhǔn)直器自由切換
4. 定制專享高敏感鏡頭
—1/2.7”彩冊(cè)CCD高敏感可變焦鏡頭行動力，全局快門規模最大，有效像素：1280*960穩中求進，光學(xué)18-46X，數(shù)字放大20-200倍
5. 恒壓恒流快門式光閘
—擁有高壓電源緊急自鎖功能最深厚的底氣，帶給您更安全的防護(hù)
6. 移動(dòng)平臺(tái)
—全自動(dòng)高精密XY移動(dòng)滑臺(tái)協同控製，移動(dòng)范圍210mm*260mm，精度0.01mm品質，可承重30KG
7. 全新一代高壓電源
—性能穩(wěn)定可靠利用好，高達(dá)50W的功率實(shí)現(xiàn)更高的測(cè)試效率
8. 對(duì)流通風(fēng)式過濾風(fēng)冷
—的散熱系統(tǒng)配備，儀器即便全天候開啟解決問題，都可保持恒溫恒效
9. 隨附標(biāo)準(zhǔn)片
—免費(fèi)提供十二元素片系列、五選二標(biāo)準(zhǔn)片（ Ni/Cu 2um、Ni/Fe 5um相互配合、Au/XX 0.05um統籌推進、Ag/XX 0.5um、Cr/XX 0.15um）關鍵技術、其他規(guī)格（選配）
10. 其他配置
—電腦一套了解情況、打印機(jī)、附件箱技術研究、電鍍液測(cè)量杯（選配）
技術(shù)參數(shù)：
1. 元素分析范圍：氯（Cl）- 鈾（U）
2. 涂鍍層分析范圍：鋰Li（3）- 鈾（U）
3. 厚度檢出限：0.005μm
4. 成分檢出限：1ppm
5. 最小測(cè)量直徑0.05mm（最小測(cè)量面積0.002mm2）
6. 對(duì)焦距離：0-90mm
7. 樣品腔尺寸：530mm*570mm*150mm
8. 儀器尺寸：760mm*550mm*635mm
9. 儀器重量：120KG
10. 多元迭代EFP核心算法（號(hào)：2017SR567637）
專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上重要的，計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光姿勢、靶材熒光相互融合、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法綠色化，結(jié)合的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)不同需求、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)，只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子保持穩定，可測(cè)試重復(fù)鍍層創造更多、非金屬、輕金屬不斷進步、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量工藝技術。
單涂鍍層應(yīng)用：如Ni/Fe、Ag/Cu等
多涂鍍層應(yīng)用：如Au/Ni/Fe規模、Ag/Pb/Zn等
合金鍍層應(yīng)用：如ZnNi/Fe近年來、ZnAl/Ni/Cu等
合金成分應(yīng)用：如NiP/Fe，通過EFP算法發展目標奮鬥，在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí)技術先進，還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。
重復(fù)鍍層應(yīng)用：不同層有相同元素延伸，也可精準(zhǔn)測(cè)量和分析認為。
如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB服務好，層Ni和第三層Ni的厚度均可測(cè)量。
儀器參數(shù)：
