產(chǎn)地：瑞士

 

納米壓痕測(cè)試儀采用了UNHT（超納米壓痕儀）的技術(shù)應用，其靈敏度及噪音水平和穩(wěn)定性得以顯著提高。采用的top reference（表面參比測(cè)試技術(shù)）設(shè)計(jì), NHT2 納米壓痕儀將熱漂移效應(yīng)（thermal drift）降低到了0.02nm/s的水平品率∠嘭炌?？蛻舨恍枰浖M近似扣除即可獲得可靠、穩(wěn)定的數(shù)據(jù)積極影響，也不需要長(zhǎng)期甚至隔夜的穩(wěn)定時(shí)間自動化方案，對(duì)實(shí)驗(yàn)室的環(huán)境要求大為降低。

 

儀器應(yīng)用：

 

NHT2 納米壓痕儀主要用于測(cè)量納米尺度的硬度與彈性模量越來越重要，可以用于研究或測(cè)試薄膜等納米材料的接觸剛度線上線下、蠕變、彈性功像一棵樹、塑性功過程中、斷裂韌性、應(yīng)力-應(yīng)變曲線能運用、疲勞達到、存儲(chǔ)模量及損耗模量等特性〔豢扇鄙?？蛇m用于有機(jī)或無(wú)機(jī)蓬勃發展、軟質(zhì)或硬質(zhì)材料的檢測(cè)分析，包括PVD積極回應、CVD重要性、PECVD薄膜，感光薄膜，彩繪釉漆多元化服務體系，光學(xué)薄膜規劃，微電子鍍膜，保護(hù)性薄膜深度，裝飾性薄膜等等帶動擴大。基體可以為軟質(zhì)或硬質(zhì)材料深刻認識，包括金屬核心技術、合金、半導(dǎo)體主動性、玻璃創造性、礦物和有機(jī)材料等。

 

主要特點(diǎn)：

 

的參比環(huán)設(shè)計(jì)-實(shí)時(shí)消除大部分熱漂移

帶有反饋系統(tǒng)的載荷加載系統(tǒng)

靈活的試樣夾具可夾持各種尺寸試樣（無(wú)需用膠粘結(jié)試樣）

高質(zhì)量金相顯微鏡觀測(cè)系統(tǒng)

計(jì)算機(jī)軟件包道路，自動(dòng)進(jìn)行數(shù)據(jù)獲取規模設備、儲(chǔ)存、分析等

豐富責任製、靈活的擴(kuò)展空間

 

技術(shù)參數(shù)：

 

載荷范圍：0-500mN

載荷分辨率：40nN

壓入深度：200um

位移分辨率： 0.004nm

 

選件：

 

其它力學(xué)測(cè)試模塊（如微納米劃痕十分落實、超納米壓痕等）

真空及環(huán)境(溫度、濕度）控制

原子力顯微鏡成像系統(tǒng)

環(huán)境隔離罩