簡介：公司以家的針尖技術為核心競爭力應用的因素之一，技術源自于德國伊爾默瑙工業(yè)大學解決，致力于主動式針尖技術在微納米結(jié)構(gòu)制備和表征方面的研發(fā)，及其相關設備的產(chǎn)業(yè)化

簡介：

公司以家的針尖技術為核心競爭力敢於監督，技術源自于德國伊爾默瑙工業(yè)大學幅度，致力于主動式針尖技術在微納米結(jié)構(gòu)制備和表征方面的研發(fā)，及其相關設備的產(chǎn)業(yè)化重要的作用。

公司研制一套基于掃描針尖低能電子場發(fā)射的原理貢獻、采用壓阻式微納米針尖和多維納米定位與測量技術、在半導體器件材料表面制造尺寸小于5納米線寬結(jié)構(gòu)的高性能微納加工系統(tǒng)穩中求進。可在大氣環(huán)境下統籌，高經(jīng)濟效益、快速直寫5納米以下結(jié)構(gòu)和制備納米級器件適應性。該系統(tǒng)的閉環(huán)回路可實現(xiàn)使用同一掃描探針對納米結(jié)構(gòu)的成像堅實基礎、定位、檢測和操縱重要作用。

技術特點：

等地。場發(fā)射低能電子束
。大幅降低電子束背底散射
尤為突出。幾乎消除電子束臨近效應
規定。光刻5納米以下單線寬結(jié)構(gòu)
。光刻結(jié)構(gòu)間距小于2納米
空間載體。接近原子級分辨的套刻精度
高質量。線寫速度高達 300 μm/s
。大氣環(huán)境下可實現(xiàn)正負光刻
重要組成部分。正光刻流程無需顯影步驟
流程。無需調(diào)制電子束聚光
。大范圍分步重復工藝
勃勃生機。Mix & Match 混合光刻模式
助力各業。針尖曝光與結(jié)構(gòu)成像實時進行
。真空原位觀測光刻圖案

功能指標：

產(chǎn)品規(guī)格：

探針掃描頭配置：

樣品臺配置：