樣品進(jìn)行掃描電鏡觀察前進一步提升，通常需要對其表面鍍一層金屬膜，以便減少觀察時產(chǎn)生的荷電營造一處，并增強二次電子或背散射電子信號改革創新，獲得更好的信噪比。

Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀取得顯著成效，可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發(fā)鍍碳膜功能新模式，或者同時具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求不容忽視，也可用于X-射線能譜及波譜分析組織了，或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜。全自動電腦控制說服力，自動完成抽真空搶抓機遇，鍍膜，放氣等全過程表示，一鍵操作全面闡釋。采用當(dāng)下非常流行的觸摸屏控制非常激烈，簡單方便。

主要技術(shù)參數(shù)：

· 可任選離子濺射模式引人註目、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式領域，或者雙模式，可選輝光放電（用于網(wǎng)格表面親水化）

· 設(shè)計脈沖式碳絲蒸發(fā)方式探索創新，可精確控制碳膜厚度

· 可選石英膜厚檢測器帶來全新智能，精確控制鍍膜厚度實現了超越，精度達(dá)0.1nm

· 全自動程序控制新產品，自動完成抽真空，鍍膜橋梁作用，放氣等過程

· 觸摸屏控制長遠所需，簡單方便

· 真空度7×10-3mbar

· 濺射電流：0-150mA可調(diào)

· 方形樣品倉設(shè)計，樣品倉尺寸：140mm（寬）×145mm（深）×150mm（高）

· 工作距離調(diào)節(jié)范圍：30mm-100mm