微電子及半導(dǎo)體封裝涂布試驗(yàn)機(jī)簡單介紹:
狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)由山東安尼麥特儀器有限公司精心研制高精度精密型涂布試驗(yàn)機(jī)優勢與挑戰，本機(jī)主要應(yīng)用于蓋板玻璃的各種涂膠作業(yè)而開發(fā)設(shè)計(jì)的專用裝置，同時(shí)也可以用于其他類似材料的涂布解決方案。本涂布試驗(yàn)機(jī)趨勢，底板采用微孔陶瓷吸附平臺(tái)，同時(shí)采用非接觸式狹縫式涂布頭上高質量，通過進(jìn)料壓力一站式服務，狹縫寬度調(diào)節(jié)廣度和深度，以及狹縫頭與底板間隙三個(gè)因數(shù)控制濕膜厚度，同時(shí)軟件系統(tǒng)增加了高度調(diào)節(jié)與反饋系統(tǒng)引領作用，大大提高了涂布精度與均勻性加強宣傳。
應(yīng)用場景：針對(duì)微米級(jí)特別是納米及亞微米級(jí)功能性涂層的涂布試驗(yàn)、墨水調(diào)試用的舒心、工藝研究技術發展、小規(guī)模制樣研發(fā)等。
涉及行業(yè)：包括水凝膠集成、液態(tài)金屬重要手段、智能包裝材料、光電材料技術的開發、光刻膠研究與應用、功能涂層、微電子及半導(dǎo)體封裝等大面積涂布制備更高效，以及氫燃料電池膜電極全面協議、電解水制氫膜電極、鋰電池具體而言、各種活性催化劑工具、異質(zhì)結(jié)太陽能電池、薄膜太陽能電池喜愛、鈣鈦礦太陽能電池重要的角色、有機(jī)太陽能電池、OLED柔性穿戴器件高質量、有機(jī)場效應(yīng)晶體管,導(dǎo)電聚合物,納米線和納米管,二維材料,有機(jī)發(fā)光二極管和鈣鈦礦發(fā)光二極管也逐步提升、鈣鈦礦光伏電池、鋰離子電池的電解質(zhì)和電極註入了新的力量、染色敏感性太陽能電池重要的作用、電子皮膚等器件的制備。
由于常規(guī)實(shí)驗(yàn)室涂布試驗(yàn)機(jī)去創新，受到刮刀調(diào)節(jié)足夠的實力，底板平整度等的影響很難達(dá)到涂布納米級(jí)膜，狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)結構，底板采用檢驗(yàn)級(jí)大理石平臺(tái)更適合，同時(shí)采用非接觸式狹縫式涂布頭，通過進(jìn)料壓力溝通協調，狹縫寬度調(diào)節(jié)要素配置改革，以及狹縫頭與底板間隙三個(gè)因數(shù)控制濕膜厚度，同時(shí)軟件系統(tǒng)增加了高度調(diào)節(jié)與反饋系統(tǒng)保障性，大大提高了涂布精度與均勻性帶動產業發展。在國內(nèi)光學(xué)膜涂布實(shí)驗(yàn)室研發(fā)打樣階段得到了廣泛的應(yīng)用開拓創新。
微電子及半導(dǎo)體封裝涂布試驗(yàn)機(jī)技術(shù)參數(shù)
1. 產(chǎn)品型號(hào)： AT-XTB-3040A
2.涂布方式：狹縫式涂布頭
3.涂布速度：1-30mm/s 任意設(shè)定
4.控制方式: 觸摸屏
5.涂布濕膜厚度范圍： 2-100um （根據(jù)涂布速度和涂布液粘度涂布范圍不同
6.干膜厚度范圍： 50nm-1000nm (根據(jù)固含量不同干膜厚度范圍有偏差）
7.涂布固含量范圍：1-70%
8.粘度范圍：1-300CPS
9.均勻性：4-6%
10.涂布寬度范圍：10-260mm
11.涂布頭與底板距離調(diào)節(jié)精度：0.002mm
12.加熱溫度范圍：室溫-150度
13.加熱板功率：2000w
14.涂布頭產(chǎn)地：國產(chǎn) （可以定制進(jìn)口涂布頭）
15. 氣源壓力：0.6MPa
16. 涂布頭與底板間隙調(diào)節(jié)方式：手動(dòng)調(diào)節(jié)/自動(dòng)調(diào)節(jié)/自動(dòng)調(diào)節(jié)帶反饋（調(diào)節(jié)方式客戶根據(jù)自己需要選配）
17. 試樣加持方式：機(jī)械固定/吸附固定（客戶根據(jù)自己需要選配）
18. 設(shè)備總功率：2500W
19.設(shè)備尺寸：750mmX400mmX450mm
20.涂布平臺(tái)尺寸：300X300mm
21.電源電壓：220V 50 Hz
產(chǎn)特特點(diǎn)
1.采用滾珠絲杠傳動(dòng)，運(yùn)行平穩(wěn)性更好
2.速度數(shù)字化可調(diào)必然趨勢，可以根據(jù)需要選擇合適的速度.
3.高精度國產(chǎn)涂布頭，加料方便擴大，涂布精度高多樣性，均勻性好
4.采用檢驗(yàn)級(jí)大理石平臺(tái)，平整度好新格局，可以達(dá)到微米級(jí)別明顯。
5.觸摸屏控制，自動(dòng)化程度高顯示，涂布距離可設(shè)定創新為先，有效保證了涂布試樣的尺寸。
