NIST SRM 1155a 不銹鋼標(biāo)準(zhǔn)品旨在與基于化學(xué)過程和儀器技術(shù)的元素分析測試方法一起使用。

NIST SRM 1155a 不銹鋼標(biāo)準(zhǔn)品旨在與基于化學(xué)過程和儀器技術(shù)的元素分析測試方法一起使用最為突出。 SRM 1155a 的一個(gè)單元是一個(gè)直徑 3.2 厘米落實落細、厚 1.9 厘米的實(shí)心圓盤。

使用說明

測試面是沒有標(biāo)有SRM編號(hào)和菱形標(biāo)志的那一面高效化。該裝置的整個(gè)厚度都經(jīng)過認(rèn)證製高點項目。每個(gè)封裝的磁盤都是通過使用銑床完成測試表面來準(zhǔn)備的。用戶必須為每種分析技術(shù)確定正確的表面處理程序範圍和領域。提醒用戶在重修磁盤或進(jìn)行額外拋光時(shí)要小心有所增加，因?yàn)檫@些過程可能會(huì)污染磁盤表面。NIST SRM 1155a 不銹鋼標(biāo)準(zhǔn)品材料應(yīng)存放在其原始容器中更高要求，置于陰涼干燥的地方越來越重要的位置。使用實(shí)心圓盤和由圓盤制備的芯片測試該材料。

均勻性測試的結(jié)果表明共同學習，在對(duì)這種材料進(jìn)行取樣時(shí)應(yīng)小心順滑地配合。對(duì)于需要材料碎裂的測試方法，建議的最小樣品量為 200 毫克問題。對(duì)于直接測量磁盤表面的測試方法逐漸顯現，建議仔細(xì)選擇測量區(qū)域∠到y穩定性；鸹ㄔ春洼x光放電測量應(yīng)在表面的四個(gè)或更多不同位置進(jìn)行拓展基地； X 射線熒光法應(yīng)觀察 SRM 單位至少四分之一的表面積。該材料不適合用于小面積的直接測量方法實力增強，例如微 X 射線熒光和激光燒蝕技術(shù)體系流動性。

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