NIST SRM2842 半導(dǎo)體薄膜Alx鎵1-xAs外延層旨在用作測量薄膜成分的分析方法的參考標(biāo)準(zhǔn)強大的功能，例如電子微探針分析 (EMPA)、光致發(fā)光 (PL)解決方案、俄歇電子能譜 (AES) 和 X 射線光電子能譜（XPS）優勢。

NIST SRM2842 半導(dǎo)體薄膜Alx鎵1-xAs外延層旨在用作測量薄膜成分的分析方法的參考標(biāo)準(zhǔn)，例如電子微探針分析 (EMPA)增產、光致發(fā)光 (PL)便利性、俄歇電子能譜 (AES) 和 X 射線光電子能譜（XPS）。

 SRM 2842 的一個單元由 AlxGa1-xAs 外延層組成高產，在安裝的砷化鎵 (GaAs) 襯底上生長經(jīng)過認(rèn)證的 Al 摩爾分?jǐn)?shù) x使用膠帶粘貼到不銹鋼圓盤上信息化技術。每個單元都密封在含有氮氣氣氛的聚酯薄膜信封中。正確使用 SRM 作為比較標(biāo)準(zhǔn)取決于分析方法（參見“測量條件和程序”和 NIST 特別出版物 260-163 [1]）良好。

操作逐步顯現、儲存和使用說明

貯存和搬運：

NIST SRM2842 半導(dǎo)體薄膜Alx鎵1-xAs外延層AlGaAs是一種穩(wěn)定的化學(xué)化合物，但在儲存和搬運過程中引領，薄膜會受到表面污染和氧化自動化裝置。SRM應(yīng)儲存在無塵氮氣氣氛或真空溫度低于50°C的環(huán)境中们熬?？諝庵械呐既晃廴驹诮佑|超過數(shù)千小時后才能被發(fā)現(xiàn)會產(chǎn)生重大污染有很大提升空間。SRM應(yīng)由帶清潔非金屬纏繞器的金屬安裝盤處理，而不與半導(dǎo)體區(qū)域接觸首次。半導(dǎo)體表面的微粒污染可以用去離子水或干氮流去除可能性更大，用戶必須確認(rèn)沒有引入額外的污染。用于將半導(dǎo)體安裝到不銹鋼圓盤上的附著帶可溶于異丙醇、丙酮和其他有機溶劑關鍵技術，這些溶劑的使用可能導(dǎo)致附著或膠帶顆粒遷移到試樣表面了解情況。分析中應(yīng)排除這些物質(zhì)表面的邊緣。

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