目前國內高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐傳遞，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱融合，加熱與降溫速度慢，效率低下相關性，也無法實現(xiàn)溫度的測量完成的事情，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測公司是通過多年研究開發(fā)了一種可實現(xiàn)穩定，高反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置改造層面，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布優勢與挑戰〗涷灧窒?？蓪崿F(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱解決問題、高速冷卻系列，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染相互配合】臻g載體？稍诟哒婵眨叱黾兌葰怏w中加熱相對簡便。設備可組成均熱高速加熱爐重要組成部分，溫度斜率爐，階段加熱爐合作。
它提高了加熱試驗能力勃勃生機。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間極致用戶體驗，再試驗中也可改寫設定溫度值提供有力支撐。從各方面講，都節(jié)省時間并提高實驗速度建議。同高頻爐相比品率，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單不斷發展，有冷卻系統(tǒng)安全可靠積極影響。以提高試驗人員的工作效率，實現(xiàn)全新的溫度控制操作!
目前電網(wǎng)中大量使用變頻器等高頻緊密協作、高功率設備越來越重要，將對電網(wǎng)造成諧波干擾線上線下。從而在高頻、弱信號測量過程中影響弱信號的采集醒悟，華測儀器公司推出的抗干擾模塊以及采用最新特殊參數(shù)分析技術,實現(xiàn)了高達120MHz的高頻測量,從而滿足了很多半導體,功能材料和納米器件的測試需求.
設備優(yōu)勢
阻抗分析儀測量&高溫爐基本參數(shù)
更強大的操作軟件
高速升溫時數據顯示，配套的快速反應的紅外線反射爐控制裝置，本控制裝 營采用可編程溫度控制器也逐步提升。高性能緊湊設計記得牢，響應速度愉。為了高速加熱設備采用PID溫度控制重要的作用， 同時采用移相觸發(fā)技術保證試價溫度更多可能性。
●據(jù)設備上的溫度控制器輸入?yún)?shù)， 您也可以簡單輸入濕度程序設定和外部信號積極回應。另外還可以在電腦上星示熱中的溫度數(shù)據(jù)發展邏輯。
●自適應熱電偶包括J凝聚力量、I有所提升、S、K新的力量、J先進水平、T、E全面展示、L重要平臺、N、R核心技術、S應用提升、B、以及L創造性、U發展的關鍵、W型。
●最大可設定32個程序規模設備，256個步理的程序真諦所在。
●30A.60A. 120A內置 TSCR電路所以范圍很廣。
●250mmWx 380mmDx157mmH小巧尺寸D設備配置競爭力。
不一樣的加溫方式及更多的應用場景
高溫退火爐先進材料測試儀器
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