產品名稱： 單靶等離子濺射儀
產品貨號： wi97944
產 地： 國產

單靶等離子濺射儀是一種已經通過CE認證的緊湊型等離子濺射儀建強保護。用于金同期、鉑、銦使命責任、銀等多種金屬的濺射鍍膜效果。樣品直徑可達50mm,鍍膜厚度可達300埃。特別適用于SEM樣品的鍍膜合規意識。本品包括真空泵和預置一個金靶密度增加。 主要特點： 單靶等離子濺射儀主要特點如下： 1. 配置有樣品濺射室真空表和濺射電流表，用以指示現場、監(jiān)控儀器狀態(tài)高端化； 2. 濺射電流調整控制器、微型真空氣閥我有所應。在工作時結合內部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體深入實施，獲得*鍍膜效果至關重要； 3. 特殊設計的鐘罩邊緣橡膠密封圈，可保證*使用不會出現影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現象效果； 4. 陶瓷密封高壓頭比通常采用橡膠密封的更經久耐用有所應； 5. 根據電場中氣體電離特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應面積濺射靶預期，使濺射鍍層更均勻純凈敢於監督。 技術參數： 單靶等離子濺射儀主要技術參數： 1、輸入電源：220V結構，總功率小于2000W(包括真空泵)重要的作用； 2、樣品室尺寸：直徑160mm,高度120mm; 3規模最大、樣品臺：直徑50mm,可以同時給8個SEM樣品鍍膜穩中求進，樣品臺高度可調。zui大均勻鍍膜區(qū)域為直徑45mm; 4最深厚的底氣、氣氛控制：針閥控制氣體流量協同控製，已取得更好的鍍層效果; 5、外形尺寸：長400mmx寬300mmx高400mm; 6品質、凈重：約30公斤利用好； 7、保質期和證書：1年保質期及CE認證證書。 靶材相關： 金 – 常規(guī)SEM應用時使用zui普遍的靶材系列；濺射速度快且導電效果規定。 銀 – 高導電性且具有高的二次電子發(fā)射率。濺射上去的銀易于去除空間載體，可使樣品成像后還原到其原來狀態(tài)高質量。 鉑 – 在機械泵抽真空的濺射鍍膜系統中它的顆粒尺寸zui小，且具有優(yōu)良的二次電子發(fā)射能力重要組成部分。 鈀 – 用于x射線能譜分析非常理想流程，因其譜線分布沖突相對較低。 金/鈀合金（80:20%） - 通過限制沉積期間金顆粒的團聚勃勃生機，鈀可提高zui終分辨率助力各業。 標準配件：金靶1塊 可選配件：金、銦提供有力支撐、銀應用、鉑等各種靶材