近紅外加熱爐是華測公司通過多年研究開發(fā)了一種可實現落實落細，高反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置相結合，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布製高點項目「嗟暮献鳈C會？蓪崿F寬域均熱區(qū)，高速加熱認為、高速冷卻服務好，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染反應能力」仓\發展？稍诟哒婵眨叱黾兌葰怏w中加熱結構重塑。

一聽得懂、近紅外加熱爐產品簡介

目前高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱大大縮短，加熱與降溫速度慢要落實好，效率低下，也無法實現溫度的測量更默契了，加熱區(qū)域也存在不均勻的現象先進技術，華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實現，高反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置不合理波動，在高速加熱高速冷卻時宣講手段，具有良好的溫度分布重要工具。可實現寬域均熱區(qū)配套設備，高速加熱更優質、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣推進高水平，無氣氛污染脫穎而出。可在高真空生產創效，高出純度氣體中加熱廣泛應用。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐橫向協同，階段加熱爐哪些領域。

它提高了加熱試驗能力。同電阻爐和其他爐相比不斷創新，紅外線反射爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間建立和完善，在試驗中也可改寫設定溫度值。從各方面講參與水平，都節(jié)省時間并提高實驗速度大型。

同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求明確相關要求。同電阻爐一樣安裝簡單重要意義，有冷卻系統(tǒng)安全可靠。以提高試驗人員的工作效率深化涉外，實現全新的溫度控制操作體系！

二、產品特點

溫度控制器

溫度控制器采用先進移相觸發(fā)技術開展試點、控制近紅外爐按設定的升溫速度進行升溫和降溫合理需求。可通過上位機進行不同的升溫速率進行設定充分發揮。

制冷循環(huán)機

為實現爐體快速降溫以及提高試驗效率高溫爐配置制冷水循環(huán)系統(tǒng)高質量，同時增設氣體冷卻裝置，可實現快速冷卻選擇適用。

三管理、產品優(yōu)勢及不同的組合

*高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統(tǒng)業務指導，增設氣體冷卻裝置改進措施，可實現快速冷卻。

*溫度控制

近紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用，可以精que控制樣品的溫度（遠比普通加溫方式）高產。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供發揮作用。

*不同環(huán)境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空良好、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體  靜態(tài)或流動）銘記囑托，操作簡單引領，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室示範。

四應用前景、反射爐溫度控制裝置原理

高速升溫時，配套快速反應的紅外線反射爐控制裝置運行好，本控制裝置采用可編程溫度控制器首次。高性能緊湊設計，響應速度快部署安排、溫控精度高搖籃。為了高速加熱、設備采用移相觸發(fā)技術保證試驗溫度推廣開來；

根據設備上的溫度控制器輸入參數推動，您也可以簡單輸入溫度程序設定和外部信號。另外還可以在電腦上顯示加熱過程中的溫度實時數據資源配置；

自適應熱電偶包括JIS信息、K、J特性、T傳承、E、N建言直達、R形式、S、B支撐作用、以及L日漸深入、U、W型同時；?大可設定32個程序互動式宣講、256個步驟的程序；

30A模式、60A自動化、120A內置了SCR電路，所以范圍很廣高品質；

250mmX50mmDX50mmH小巧尺寸不折不扣。

五支撐能力、近紅外加熱爐產品應用

電子材料

半導體用硅化合化的PRA（加熱后急速冷卻）

熱源薄膜形成

激活離子注入后

硅化物的形成

陶瓷與無機材料

陶瓷基板退火爐

玻璃基板退火爐

陶瓷張力、撓曲試驗退火爐

鋼鐵和金屬材料

薄鋼板加熱過程的數值模擬

爐焊接模擬

高真空熱處理（1000℃以下）

大氣氣體熔化過程

壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗爐

復合材料

耐熱性評價爐

無機復合材料熱循環(huán)試驗爐

其它

高溫材料電性能試驗爐

分段分區(qū)控制爐

溫度梯度爐

爐氣分析

超導陶瓷退火爐

高溫拉伸壓縮試驗爐