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Aquila NKD8000 高級薄膜測定系統(tǒng)

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Aquila NKD8000


英國Aquila


應用
高級薄膜測定系統(tǒng)
NKD-8000系統(tǒng)綜合了光學、電子學和高級分析軟件具有重要意義,是目前測定多層薄膜和基片的折射率進一步、吸收系數(shù)和厚度確、易用的系統(tǒng)強大的功能。NKD-8000系列產(chǎn)品具有全自動實際需求、可同時測定透過光譜和反射光譜,入射光角度從0°到90°連續(xù)改變優勢。對分光光譜儀而言善謀新篇,這是一項的新功能,使得NKD-8000適用于挑戰(zhàn)性的光學測量便利性。對多層薄膜和基片的n方法、k和d的測定變得準確、快捷提供有力支撐。
技術(shù)指標
技術(shù)參數(shù)光 譜 范 圍 NKD-8000 350nm—1000nm ( 標準模式 )
NKD-8000v 280nm—1000nm ( 紫外增強型)
NKD-8000r 800nm—1700nm ( 紅 外 型 )
NKD-8000w 350nm—1700nm (寬光譜型 )
NKD-8000e 350nm—2500nm (超寬光譜 型 )
注:寬光譜型提供兩個檢測器切實把製度,可以覆蓋350nm到1000nm和800nm到1700nm或2500nm (僅適用nkd-8000e)保供,但二者不能同時用。獲得數(shù)據(jù)時間 2—10分鐘進行部署,這取決于光譜范圍和不同選件
數(shù)據(jù)分析時間 5秒—5分鐘責任,取決于數(shù)據(jù)的復雜程度
光 譜 分辨率 1nm或2nm (可選)
光 源 NKD-8000v 150W 氙弧燈
其 他 高穩(wěn)態(tài)100W石英鎢鹵燈
樣 品 尺 寸 10×10mm到200×250mm標準系統(tǒng)
100mm 直徑樣品的掃描臺
層 數(shù) 至多5層,兩個未知參數(shù)
薄膜厚度范圍 5nm到20um保護好,取決于角度組建、偏振和波長
1nm 需要增加橢偏模塊
基 片 透明、半透明或半吸收或半導體
材 料 電介質(zhì)製度保障、高聚物預下達、半導體和金屬
精 確 度 對于 半吸收薄膜 典型 大
薄膜厚度 <1% <3%
折射率 <0.1% <1%
消光系數(shù) <1% <3%
對于 金屬薄膜
薄膜厚度 <1% <3%
折射率 <1% <3%
消光系數(shù) <1% <3%
重 現(xiàn) 性 透射率 <0.01% <0.1%
反射率 <0.01% <1%
折射系數(shù) <0.01% <0.1%
入射光角度 30°的有效手段、50°或70°(標準單元)或由客戶的從
20°到70°連續(xù)可變(可變角版本)或3個位置角度
樣品上的光斑尺寸 5mm(標準系統(tǒng))統籌推進,250um(選件)
電 源 220V,50Hz關鍵技術,2A 或110V了解情況,60Hz,3A
外觀尺寸 890×540×720mm
重 量 105Kg
選 件 多角度技術研究,可變角度重要的,X-Y樣品掃描臺,多種標準尺寸樣品架姿勢。樣品觀測顯微鏡相互融合。手動或全軟件控制的偏振選件(s-、p-或非偏振)綠色化。樣品加熱臺不同需求。臺式機或工業(yè)PC。
特點
主要特點
◆ 可測定波長范圍從280nm到2300nm的透射和反射光譜
◆ 在同一區(qū)域可同時測定T和R值
◆ 可對折射率(n)保持穩定,吸收系數(shù)(k) 和厚度(d)進行準確測定
◆ 樣品可在X-Y掃描臺上進行掃描
◆ 入射光角度可以是固定角度總之、多角度和從0°到90°的連續(xù)變化的角度
◆ 可用s-、p-或非偏振光作為入射光對T和R進行測定
◆ 可對透明基片進行測定且不需要對樣品進行前處理
◆ 內(nèi)建的材料數(shù)據(jù)庫
◆ 密封的樣品室
◆ 可選擇散射模式
◆ 具有在線或離線分析功能
對T和R同時測定
KD-8000系統(tǒng)在同一個光斑處支撐作用,同時對透過光譜和發(fā)射光譜進行測定研學體驗,保證了兩套數(shù)據(jù)具有直接的相關性。通過測定這些光譜最為突出,全自動的控制和分析軟件系統(tǒng)可以從中得到n落實落細、k和d值。而且所有這些都源自同一次測定高效化。不同散射模式的選擇使得對寬廣范圍材料的分析成為可能製高點項目,而且用戶可以選擇缺省模式或者高級分析模式。
功能強大的Pro-OptixTM控制和分析軟件系統(tǒng)包括一個可編輯的數(shù)據(jù)庫延伸,它允許對材料進行預先定義認為,以提高分析速度服務好。該軟件的其他特點包括顏色的匹配和太陽光的計算以及金屬薄膜的算法。樣品可以是透明的反應能力、不透明的或者半吸收的而無需對它們特殊處理共謀發展。
NKD-8000是一款能全部提供上述功能的分光型光學薄膜分析系統(tǒng),它為薄膜表征設立了一個標準奮戰不懈。
可變的入射光角度
①反射光檢測 ②光束管 ③Y軸坐標 ④透射光檢測器 ⑤Z軸坐標 ⑥X軸坐標 ⑦樣品臺 ⑧馬達驅(qū)動的可變角度選擇裝置
NKD-8000系統(tǒng)提供可變的角度選擇裝置市場開拓,它提供*馬達驅(qū)動的,可由PC機控制入射光的角度大大縮短,入射角度從從0°到90°可自由選擇要落實好。
通過使用分析軟件中的集成工具就可實現(xiàn)對T和R的s-偏振光譜和p-偏振光譜進行獨立分析或二者一起分析。
通過作為選件的X-Y掃描臺可以對大尺寸樣品進行掃描更默契了,樣品在X先進技術、Y兩個方向上的大行程是100mm,同時保持入射光斑始終位于行程的中間不合理波動。
在測定時有許多樣品架備選宣講手段,它們可以夾持不同類型尺寸的樣品。全PC控制使這種方法對整個樣品的數(shù)據(jù)收集和分析變得簡單積極拓展新的領域、準確和快捷配套設備。
多個角度
如果在應用中只需一些不連續(xù)的入射光角度,那么多角度選件可以提供一個滿意的解決方案相對開放。從0°到90°推進高水平,用戶可自定義三個入射光角度。
附件
熱臺:可控制樣品溫度至150度拓展應用,測定變溫下的T和R生產創效,對測定光學涂層和基體的光譜位移十分有用。
顯微鏡/相機:對樣品進行顯微分析關註度。
微光斑附件:將入射光斑聚焦至200微米橫向協同,特別適合表征微小樣品和局部區(qū)域。


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