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KSV2000系列標(biāo)準(zhǔn)LB膜鍍膜儀

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KSV2000系列標(biāo)準(zhǔn)LB膜鍍膜儀


芬蘭KSV公司表面化學(xué)專家


應(yīng)用
KSV-2000LB膜分析儀系列分為三種型號:
KSV-2000 I型主動性、KSV-2000 II型創造性、KSV-2000 III型
技術(shù)指標(biāo)
KSV-2000 I型:
膜天平測量范圍: 0 - 250 mN/m
膜天平分辨率: 4 μN/m
有效槽表面積: 530 mm X 150 mm
亞相體積: 0.75升
亞相溫度范圍: 0 - 60℃
滑障壓縮速度: 0.01 mm - 800 mm/min
KSV-2000 II型:
沉積速度: 0.1 - 85 mm/min或 0.2 - 170 mm/min
速度調(diào)節(jié): 0.1 mm/min
沉積次數(shù): 無限次
延遲時間: 1 - 9999秒,可調(diào)
浸漬馬達(dá): 直流伺服電機(jī)
亞相體積: 0.95升
大基片尺寸: 100 mm X 100 mm
浸漬井尺寸: 37(W)X 116 (L) X 93 (D)mm3
沉積行程: 145 mm
(其它指標(biāo)與KSV-2000 I型相同)
KSV-2000 III型:
槽表面積: 775 mm X120 mm道路,兩個
亞相體積: 5.5升
運行電壓: 90 - 264 V, 50/60 Hz
(其它指標(biāo)與KSV-2000 I型和KSV-2000 II型相同)
特點
KSV-2000 I型結(jié)構(gòu)包括:
主機(jī)
膜天平
能夠均勻壓縮的水槽
KSV2000II型結(jié)構(gòu)包括:
主機(jī)
膜天平
膜沉積系統(tǒng)
帶有浸漬井的能夠均勻壓縮的水槽
KSV-2000 III型結(jié)構(gòu)包括:
主機(jī)
交替鍍膜系統(tǒng)
帶有浸漬井的能夠均勻壓縮的水槽


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