公司介紹：
美國(guó)麥奇克有限公司（Microtrac Inc.）是世界上*的激光應(yīng)用技術(shù)研究和制造廠商不同需求，其*的激光粒度分析儀已廣泛應(yīng)用于水泥，磨料建設應用，冶金支撐作用，制藥，石油動力，石化同時，陶瓷，*等領(lǐng)域效高性，并成為眾多行業(yè)的質(zhì)量檢測(cè)和控制的分析儀器模式。Microtrac Inc.公司非常注重技術(shù)創(chuàng)新自動化，近半個(gè)世紀(jì)以來(lái)，一直著激光粒度分析的前沿技術(shù)高品質，可靠的產(chǎn)品和強(qiáng)大的應(yīng)用支持及完善的售后服務(wù)不折不扣，使得其不斷超越自我，推陳出新資源優勢，高效利用。
Microtrac在在線顆粒大小和形狀測(cè)量方面有超過(guò)25年經(jīng)驗(yàn)，了解過(guò)程加工環(huán)境的所有需求估算，在線測(cè)量的好處就是讓操作者能實(shí)時(shí)的看到過(guò)程的變化講理論，使他們立即作出反應(yīng)，得到高質(zhì)量的產(chǎn)品不要畏懼。
儀器簡(jiǎn)介：
納米粒度測(cè)量——?jiǎng)討B(tài)光背散射技術(shù)
隨著顆粒粒徑的減小服務為一體，例如分子級(jí)別的大小，顆粒對(duì)光的散射效率急劇降低逐漸顯現，使得經(jīng)典動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)的自相關(guān)檢測(cè)（PCS）變得更加不確定全會精神。40多年來(lái)，Microtrac公司一直致力于激光散射技術(shù)在顆粒粒度測(cè)量中的應(yīng)用更默契了。作為行業(yè)的先鋒先進技術，早在1990年，超細(xì)顆粒分析儀器 UPA（UltrafineParticle Analyzer）研發(fā)成功不合理波動，*引入由于顆粒在懸浮體系中的布朗運(yùn)動(dòng)而產(chǎn)生頻率變化的能譜概念宣講手段，快速準(zhǔn)確地得到被測(cè)體系的納米粒度分布。2001年積極拓展新的領域，利用背散射（Back-scattered）和異相多譜勒頻移（HeterodyneDoppler Frequency Shifts）技術(shù)配套設備，結(jié)合動(dòng)態(tài)光散射理論和*的數(shù)學(xué)處理模型，NPA150/250將分析范圍延伸至0.3nm-10μm,樣品濃度更可高達(dá)百分之四十競爭力所在，基本實(shí)現(xiàn)樣品的原位檢測(cè)引人註目。異相多普勒頻移技術(shù)采用可控參考穩(wěn)定頻率，直接比照因顆粒的布朗運(yùn)動(dòng)而產(chǎn)生的頻率漂移溝通機製，綜合考慮被測(cè)體系的實(shí)時(shí)溫度和粘度好宣講，較之于傳統(tǒng)的自相關(guān)技術(shù)，信號(hào)強(qiáng)度高出幾個(gè)數(shù)量級(jí)領先水平。另外，新型“Y”型梯度光纖探針的使用，實(shí)現(xiàn)了對(duì)樣品的直接測(cè)量戰略布局，*的減少了背景噪音事關全面，提高了儀器的分辨率。
Zeta電位測(cè)量：
美國(guó)麥奇克有限公司（Microtrac Inc.）以其在激光衍射/散射技術(shù)和顆粒表征方面的獨(dú)到見(jiàn)解，經(jīng)過(guò)多年的市場(chǎng)調(diào)研和潛心研究技術節能，開(kāi)發(fā)出一代Nanotrac wave II微電場(chǎng)分析技術(shù)指導，融納米顆粒粒度分布與Zeta電位測(cè)量于一體，無(wú)需傳統(tǒng)的比色皿國際要求，一次進(jìn)樣即可得到準(zhǔn)確的粒度分布和Zeta電位分析數(shù)據(jù)流動性。與傳統(tǒng)的Zeta電位分析技術(shù)相比，Nanotrac wave II采用*的“Y”型光纖探針光路設(shè)計(jì)行業內卷，配置膜電極產(chǎn)生微電場(chǎng)追求卓越，操作簡(jiǎn)單逐漸完善，測(cè)量迅速參與能力，無(wú)需精確定位由于電泳和電滲等效應(yīng)導(dǎo)致的靜止層，無(wú)需外加大功率電場(chǎng)是目前主流，無(wú)需更換分別用于測(cè)量粒度和Zeta電位的樣品池充分發揮，*消除由于空間位阻（不同光學(xué)元器件間的傳輸損失，比色皿器壁的折射和污染充分發揮，比色皿位置的差異選擇適用，分散介質(zhì)的影響，顆粒間多重散射等）帶來(lái)的光學(xué)信號(hào)的損失設計，結(jié)果準(zhǔn)確可靠業務指導，重現(xiàn)性好。
測(cè)量原理：
粒度測(cè)量：動(dòng)態(tài)光背散射技術(shù)和全量程米氏理論處理
Zeta電位測(cè)量：膜電極設(shè)計(jì)與“Y”型探頭形成微電場(chǎng)測(cè)量電泳遷移率
分子量測(cè)量：水力直徑或德拜曲線
光學(xué)系統(tǒng)：
3mW780nm半導(dǎo)體固定位置激光器就此掀開，通過(guò)梯度步進(jìn)光纖直接照射樣品長足發展，在固定位置用硅光二極管接受背散射光信號(hào)，無(wú)需校正光路
軟件系統(tǒng)：
*的Microtrac FLEX軟件提供強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理能力不斷豐富，包括圖形實施體系，數(shù)據(jù)輸出/輸入，個(gè)性化輸出報(bào)告各有優勢，及各種文字處理功能效果較好，如PDF格式輸出, Internet共享數(shù)據(jù)，Microsoft Access格式（OLE）等持續。體積等多個領域，數(shù)量，面積及光強(qiáng)分布產品和服務，包括積分/微分百分比和其他分析統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)應用擴展。數(shù)據(jù)的完整性符合21 CFR PART 11安全要求，包括口令保護(hù)前景，電子簽名和*等進一步意見。
外部環(huán)境：
電源要求：90-240VAC，5A共享應用，50/60Hz
環(huán)境要求：溫度生產能力，10-35°C
標(biāo)準(zhǔn)：符合ISO13321標準，ISO13099-2:2012 和 ISO22412:2008
主要特點(diǎn)：
? 采用的動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)，引入能普概念代替?zhèn)鹘y(tǒng)光子相關(guān)光譜法
? 的“Y”型光纖光路系統(tǒng)堅持好，通過(guò)藍(lán)寶石測(cè)量窗口即將展開，直接測(cè)量懸浮體系中的顆粒粒度分布，在加載電流的情況下特性，與膜電極對(duì)應(yīng)產(chǎn)生微電場(chǎng)傳承，測(cè)量同一體系的Zeta電位， 避免樣品交叉污染與濃度變化建言直達。
? 的異相多譜勒頻移技術(shù)多種，較之傳統(tǒng)的方法，獲得光信號(hào)強(qiáng)度高出幾個(gè)數(shù)量級(jí)充分發揮，提高分析結(jié)果的可靠性發展成就。
? 的可控參比方法（CRM），能精細(xì)分析多譜勒頻移產(chǎn)生的能譜重要方式，確保分析的靈敏度開展面對面。
? 超短的顆粒在懸浮液中的散射光程設(shè)計(jì)，減少了多重散射現(xiàn)象的干擾非常重要，保證高濃度溶液中納米顆粒測(cè)試的準(zhǔn)確性進一步提升。
? 的快速傅利葉變換算法（FFT，F(xiàn)ast FourierTransform Algorithm Method）,迅速處理檢測(cè)系統(tǒng)獲得的能譜認為，縮短分析時(shí)間系統。
? 膜電極設(shè)計(jì)，避免產(chǎn)生熱效應(yīng)文化價值，能準(zhǔn)確測(cè)量顆粒電泳速度形式。
? 無(wú)需比色皿，毛細(xì)管電泳池或外加電極池不斷完善，僅需點(diǎn)擊Zeta電位操作鍵數字化，一分鐘內(nèi)即可得到分析結(jié)果
? 消除多種空間位阻對(duì)散射光信號(hào)的干擾，諸如光路中不同光學(xué)元器件間傳輸?shù)膿p失基礎上，樣品池位置不同帶來(lái)的誤差各領域，比色皿器壁的折射與污染，分散介質(zhì)的影響保持競爭優勢，多重散射的衰減等進行培訓，提高靈敏度。
