品牌：卡爾·蔡司

 型號：EVO MA 25/LS 25

 制造商：德國卡爾蔡司公司

 經(jīng)銷商：歐波同有限公司

免費(fèi)：

 【品牌故事】 

     世界可見光及電子光學(xué)的企業(yè)——德國蔡司公司始創(chuàng)于1846年去創新。其 電子光學(xué)前身為LEO（里奧），更早叫Cambridge（劍橋）和Zeiss緊迫性。積掃描電鏡領(lǐng)域40多年及透射電鏡領(lǐng)域60年的經(jīng)驗(yàn)結構，電子光學(xué)成像技術(shù)在世界上創(chuàng)造了數(shù)個里程碑：

    -與AEG公司合作實(shí)現(xiàn)了透射電子顯微鏡的商業(yè)化（1949）
    -陸續(xù)推出的EM9型電子顯微鏡是世界上*具有自動曝光控制的電磁式
    -透射電子顯微鏡TEM（1956）
    -推出EM902型配用Castaing-Henry過濾器商用電子顯微鏡，用戶利用
    -該種新產(chǎn)品能夠得到高分辨率元素分布圖片（1984）
    -配用靜電電磁物鏡（Gemini技術(shù)）的場發(fā)射掃描電子顯微鏡DSM982
    -Gemini投放市場（1993）
    -推出具有Koehler照明的200KV場發(fā)射透射電鏡（2003）
    -推出具有鏡筒內(nèi)校正Omega能量濾波器的場發(fā)射透射電鏡（2003）

    CARL ZEISS其前瞻性和完善的設(shè)計多元化服務體系，融合歐洲*的制造工藝規劃， 造就了該品牌在光電子領(lǐng)域的地位。自成立至今深度，一直延續(xù)不 斷創(chuàng)新的傳統(tǒng)帶動擴大，公司擁有廣泛的專有技術(shù)，隨著離子束技術(shù)和基于電子束的 分析技術(shù)的加入開拓創新，可為您提供鎢燈絲掃描電鏡持續發展、場發(fā)射掃描電鏡、雙束顯微鏡（FIB and SEM）促進善治、透射電子顯微鏡等全系列解決方案擴大。其產(chǎn)品的高性能、 高質(zhì)量、高可靠性和穩(wěn)定性已得到世界范圍內(nèi)廣大用戶的信賴與認(rèn)可新格局。
    作為一家電子光學(xué)產(chǎn)品提供商明顯，我們將為您提供完善的納米技術(shù)解決方案，并且以專業(yè)化的手段讓您的投資物有所值顯示。無論您是企業(yè)還是科研機(jī)構(gòu)創新為先，卡爾 蔡司在高質(zhì)量電子光學(xué)系統(tǒng)方面優(yōu)良的傳統(tǒng)都會為您的業(yè)績做出積極的貢獻(xiàn)。

【總體描述】
       EVO系列電鏡是高性能集聚、功能強(qiáng)大的高分辨應(yīng)用型掃描電子顯微鏡競爭力。EVO MA 25用于材料領(lǐng)域,LS 25用于生命科學(xué)領(lǐng)域。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術(shù)級的物鏡設(shè)計狀況，提供高低真空成像功能機製性梗阻，可對各種材料表面作分析，并且具有業(yè)界的X射線分析技術(shù)全過程。革命性的Beamsleeve的設(shè)計集成應用，確保在低電壓條件下提供高分辨率的銳利圖像，同時還可以進(jìn)行準(zhǔn)確的能譜分析效果。樣品臺為五軸全自動控制使用。標(biāo)準(zhǔn)的高效率無油渦輪分子泵能夠滿足快速的樣品更換和無污染(免維護(hù))成像分析。

【技術(shù)參數(shù)】
    分辨率：3.0nm@ 30KV(SE and W)    
             4.0nm@ 30KV(VP with BSD)
     加速電壓：0.2—30KV
     放大倍數(shù)：5—1000000x 
     探針電流：0.5PA-5μA
     X-射線分析工作距離：8.5mm    35度接收角
     低真空壓力范圍：10—400Pa (LS25：10-3000Pa)
     工作室：420mm(φ)×330mm(h)
     5軸試樣載物臺：X=130mm  Y=130mm  Z=50mm  T=-10°- 90°R=360°

     較大試樣高度：210mm密度增加，試樣大直徑：300mm
     系統(tǒng)控制：基于Windows 7 的SmartSEM操作系統(tǒng)
     存儲分辨率：32,000 × 24,000 pixels

【主要特點(diǎn)】
    大的樣品高度可達(dá)210mm  
     大樣品重量5Kg  
     大的樣品直徑300mm 
     能在可變壓力下操作
     高亮度LaB6資源選擇
     光線套選擇

【產(chǎn)品應(yīng)用】
         掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵有效性、冶金、有色機遇與挑戰、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)廣泛關註、化工、石油集成技術、地質(zhì)礦物學(xué)就能壓製、橡膠、紡織適應能力、水泥更優美、玻璃纖維)等檢驗(yàn)和研究。在材料科學(xué)研究防控、金屬材料成效與經驗、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料堅實基礎、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌稍有不慎、組織、成分分析等地，各種材料的形貌組織觀察最為顯著，材料斷口分析和失效分析尤為突出，材料實(shí)時微區(qū)成分分析，元素定量環境、定性成分分析進行部署，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體品質、晶粒的相鑒定利用好，晶粒尺寸、形狀分析解決問題，晶體、晶粒取向測量作用。