概述：

隨著科學技術的日益進步和發(fā)展重要平臺，在國民經濟的許多部門深刻認識，如能源、動力更適合、機械高效、醫(yī)藥溝通協調、化工要素配置改革、輕工、冶金保障性、建材等行業(yè)中都出現了越來越多的細微顆粒密切相關的技術問題有待解決帶動產業發展，顆粒粒徑大小的測量是其中基本也是重要的一個方面。許多情況下十分落實，顆粒粒徑大小不僅直接影響到產品的性能與質量倍增效應，而且對工藝過程的優(yōu)化、能源消耗的降低設施、環(huán)境污染的減少等都有重大的關聯(lián)需求。近年來，與*組合運用、國防工業(yè)更讓我明白了、軍事科學等密切相關的各種新型顆粒材料，特別是超細納米顆粒的問世和利用，給顆粒粒徑的測量提出了新的和更高的要求探索，不但要求快速堅持先行、自動化數據處理、而且也要求提供可靠的更豐富的數據和更有用的信息滿意度，以滿足科研領域和工業(yè)質量控制方面應用的需要情況較常見。TS-W系列激光粒度分析儀正是為了滿足用戶上述新要求而精心研制開發(fā)的一代激光粒度分析儀。該儀器集*激光技術主要抓手、半導體技術體製、光電技術、微電子技術和計算機技術的應用創新科技，綜合了光探討、機、電高效流通、計算機于一體調解製度，以光散射理論為基礎的顆粒粒徑測量技術突出的優(yōu)點逐步取代了一些傳統(tǒng)的常規(guī)測量方法，必將成為一代新穎的顆粒粒徑測量儀器功能。并且在科研領域和工業(yè)質量控制的粒度分布分析中發(fā)揮著越來越大的作用應用的因素之一。

激光粒度分析儀的高品質和所測樣品的廣泛性使得它在實驗室的實驗研究和工業(yè)生產的質量控制等諸多領域中得到了廣泛的應用。例如：材料預期、化工敢於監督、制藥、精細陶瓷結構、建材重要的作用、石油、電力規模最大、冶金穩中求進、食品、化妝品最深厚的底氣、高分子勇探新路、油漆、涂料傳遞、碳黑試驗、高嶺土、氧化物開展攻關合作、碳酸鹽製度保障、金屬粉末、耐火材料的有效手段、添加劑等以顆粒物作為生產原材料統籌推進、產品責任、中間體等。

技術特點：
1.*的半導體制冷恒溫控制綠色固體激光器做光源保護好，波長短組建、體積小、工作穩(wěn)定特點、壽命長深刻變革；
2.*設計大直徑光靶，保證測量范圍大和諧共生，0.1-1000微米全測量范圍內不需要更換鏡頭或移動樣品池質生產力；
3.集多年研究之成果，米氏理論的完美應用技術交流；
4.*反演算法先進的解決方案，保證顆粒測量的準確；
5.USB接口創造更多，儀器與計算機分離宣講活動，可配任意具有USB接口之計算機；臺式工藝技術、筆記本效率、移動PC均可；
6.測量時循環(huán)樣品池或固定樣品池可選近年來，兩者可根據需要換用講道理；
7.循環(huán)系統(tǒng)與儀器一體化，樣品池內置超聲分散裝置技術先進，可有效分散團聚顆粒更多的合作機會；
8.樣品測量可*自動化，除添加樣品外健康發展，只要連接好蒸餾水進水管和排水管有效保障，進水、測量落實落細、排水相結合、清洗高效化，啟動超聲分散裝置等操作可*自動進行製高點項目，同時也提供手動測量菜單；
9.軟件個性化範圍和領域，提供測量向導等眾多功能有所增加，方便用戶操作；
10.測量結果輸出數據豐富更高要求，保存在數據庫中越來越重要的位置，能用任意參數新技術，如操作者姓名，樣品名順滑地配合，日期深入，時間等進行調用分析，與其他軟件實現數據共享前沿技術；
11.儀器造型美觀基礎，體積小重量輕；
12.測量精度高多種方式，重復性好對外開放，測量時間短；13.軟件提供眾多物質折射率供用戶選擇深入交流研討，滿足用戶查找被測顆粒折射率要求資料；
14.考慮到測試結果保密要求，只有*操作者才能進入相應數據庫讀取數據和處理關註度；15.本儀器參照標準：ISO 13320橫向協同；

技術參數：
1. 測量原理：Mie散射理論

2. 測量范圍：0.1-200um

3. 測量分析時間：正常條件下小于1分鐘（從開始測量到顯示分析結果）。

4. 重現性：≤1%敢於挑戰。

5. 測量精度：≤1%（國家標準顆粒檢驗）迎難而上。

6. 數據輸出：體積、數量微分分布和累積分布表和圖表探索；多種統(tǒng)計平均直徑堅持先行；操作者姓名、單位管理、樣品名優化上下；選用折射率，測量時間等相關信息模樣。

7. 光源：半導體制冷恒溫控制紅光固體激光光源生產體系，波長635nm。

8. 檢測器：32或48通道硅光電二極管很重要。

9. 通訊接口：USB接口能力和水平。

10. 樣品池：固定樣品池和循環(huán)樣品池。

11. 電源：AC 180V-240V .50Hz . 20W異常狀況。

12. 外形尺寸：640*430*290研究。

工作條件：

l 1.室內溫度：15℃-35℃

l 2.相對溫度：不大于85%（無冷凝）

l 3.建議用交流穩(wěn)壓電源1KV應用創新，無強磁場干擾提高。

l 4.由于在微米級的范圍內的測量，儀器應放在堅固可靠的特性、無振動的工作臺上交流，并且在少塵條件下進行測量基礎。

l 5.儀器不應放在太陽直射、風大或溫度變化大的場所還不大。

l 6.設備必須接地高產，保證安全和高精度。