208HR高分辨離子濺射儀為場發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案精準調控。
場發(fā)射掃描電鏡觀察時功能，樣品需鍍上極其薄、無細(xì)晶且均勻的膜層以消除電荷積累解決，并提高低密度材料的對比度預期。為了將細(xì)晶的尺寸減小到小程度敢於監督，208HR提供了一系列的鍍膜材料，并對膜厚和濺射條件提供無可媲美的控制結構。
208HR分子渦輪泵高真空系統(tǒng)提供寬范圍的操作壓力重要的作用，可以對膜層的均勻性和一致性進(jìn)行精確控制，并減小充電效應(yīng)更優美。高/低樣品室的結(jié)構(gòu)設(shè)計使靶材和樣品之間的距離調(diào)節(jié)變得極為方便各方面。
MTM-20高分辨膜厚控制儀分辨率小于0.1nm防控，其作用是對所鍍薄膜的厚度進(jìn)行精確控制成效與經驗，它尤其適合場發(fā)射電鏡對膜厚（0.5－3nm）的要求。
場發(fā)射掃描電鏡鍍膜*的靶材是：
Pt/Pd：非導(dǎo)電樣品鍍膜的通用鍍膜材料
Cr：優(yōu)良的半導(dǎo)體樣品的鍍膜材料
Ir：優(yōu)良的真正無細(xì)晶的鍍膜材料
208HR系統(tǒng)為得到高分辨鍍膜效果提供了多種配置選擇堅實基礎，可配備標(biāo)準(zhǔn)的旋片泵或提供干凈真空的無油渦旋式真空泵稍有不慎，標(biāo)配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。
一等地、主要特性
· 可選擇多種鍍膜材料
· 精確的膜厚控制
· 樣品臺控制靈活：可對樣品臺進(jìn)行獨立的旋轉(zhuǎn)最為顯著、行星式轉(zhuǎn)動、傾斜控制規定，保證形貌差異大的樣品也能得到的鍍膜效果環境。
· 多個樣品座：提供4個樣品座，每個樣品座直徑32mm高質量，可裝載多達(dá)6個小樣品座應用情況。
· 樣品室?guī)缀慰勺儯?/strong> 樣品室?guī)缀斡糜谡{(diào)節(jié)鍍膜的速率（1.0nm/s ～ 0.002nm/s）
· 寬范圍的操作壓力：獨立的功率和壓力調(diào)節(jié)，氬氣的壓力大小范圍為0.2 - 0.005 mbar組建。
· 緊湊表現、現(xiàn)代的桌上型設(shè)計
· 操作容易
二、技術(shù)參數(shù)
濺射系統(tǒng) |
鍍膜頭 | 低電壓平面磁控管 靶材更換快速 環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩 靶材調(diào)節(jié)遮擋 |
靶材 | Cr, Pt/Pd (標(biāo)配)
Ta, Au, Au/Pd, Pt, W, Ir , Ti（選配） |
鍍膜控制 | 微處理器控制 安全互鎖 電流控制與真空度無關(guān) 數(shù)字化可選電流（20深刻變革，40結論，60 和 80mA） |
樣品室大小 | 直徑150mm
高度165 - 250mm |
樣品臺 | 非重復(fù)的旋轉(zhuǎn)、行星式轉(zhuǎn)動質生產力，并可手動傾斜0-90°
轉(zhuǎn)動速度可調(diào)
晶體頭
4個樣品臺 |
模擬計量 | 真空 Atm - .001mb
電流 0-100mA |
控制方法 | 自動氣體凈化和泄氣功能 自動處理排序 帶有“暫瓦m應性強！惫δ艿臄?shù)字計時器 自動放氣 |
膜厚控制 | MTM-20高分辨膜厚控制儀 |
真空系統(tǒng) |
結(jié)構(gòu) | 分子渦輪牽引泵和旋葉泵組合， 代替旋葉泵的無油渦旋式真空泵（選配） |
抽真空速度 | 0.1mb 下300 l/min |
抽真空時間 | 1 mbar 至 1 x 10-3mbar |
極限真空 | 1 x 10-5mbar |
桌上型系統(tǒng) | 旋葉泵置于抗震臺上先進的解決方案，全金屬真空耦合系統(tǒng) |
膜厚測控儀 |
MTM-20 | 基于微處理器拓展，4位數(shù)字顯示，復(fù)位按鈕助力各行， 6MHz晶體（具有壽命檢查功能）前來體驗，5次/s的更新速率 |
膜厚范圍 | 0.0 - 999.9nm |
分辨率 | 優(yōu)于 0.1nm |
密度范圍 | 0.50 - 30.00gm/cm3 |
修正系數(shù)范圍 | 0.25 - 8.00 |
鍍膜終止范圍 | 膜厚0 - 999.9nm |
系統(tǒng)要求 |
電氣 | 100-120 或 200-240VAC, 50/60Hz |
功率 | 550VA（大） |
氬氣 | 小純度99.995%
調(diào)節(jié)壓力 5 - 6 psi (0.4 bar)
6.0mm ID連接軟管 |
