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掃描電化學顯微鏡(SECM)

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Bsae-SECM 是一套致力于研究的掃描電化學顯微鏡法治力量,技術(shù)源于德國波鴻魯爾大學Schuhmann 教授課題組全技術方案。Base-SECM 標準配置的功能已然十分強大,能滿足絕大多數(shù)研究的需要共享。在這基礎(chǔ)上信息化,用戶還可以購置不同的功能模塊,以滿足特殊的研究需要生動。

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主要功能及特點

Bsae-SECM 是一套致力于研究的掃描電化學顯微鏡新型儲能,技術(shù)源于德國波鴻魯爾大學Schuhmann 教授課題組。Base-SECM 標準配置的功能已然十分強大新品技,能滿足絕大多數(shù)研究的需要範圍。在這基礎(chǔ)上,用戶還可以購置不同的功能模塊紮實做,以滿足特殊的研究需要空間廣闊。


·主要技術(shù)參數(shù)

定位系統(tǒng):XYZ 步進控制系統(tǒng)

動態(tài)范圍:25x25x25 mm(其他范圍可選)

大線掃速率:10mm/s

分辨率:20nm

掃描模式

· Feedback Mode 反饋模式

· GC Mode 產(chǎn)生收集模式

· Direct Mode 直接模式

· AC-SECM 微區(qū)阻抗模式

· 4D 模式

· Shearforce剪切力模式

探針掃描:

· 2D 掃描

· 3D 掃描

· 等間距掃描

· 快速等間距掃描

· 預設掃描

· 自編輯電化學程序掃描

應用領(lǐng)域

o 電化學動力學研究

o 吸附/脫附現(xiàn)象和溶解過程的研究

o /液界面,液/氣界面臺上與臺下,液/固界面以及重要的生物過程

o 局部腐蝕過程觀測

o 催化劑活性評價

o 傳感器表面活性成像

o 局部阻抗分析

o 生物膜酶活性研究

o 微納米尺度的金屬顆粒沉積(恒電流或無電沉積)

o 在水或有機溶液中材料表面上導電聚合物局部沉積

o 電化學刻蝕


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