穩(wěn)態(tài)微聚束原理得到驗(yàn)證國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)或?qū)⒂瓉?lái)新發(fā)展

2021-03-02 11:51:55來(lái)源：儀器網(wǎng)關(guān)鍵詞：光刻機(jī)閱讀量：5193

　　【儀器網(wǎng) 科技成果】2月25日，清華大學(xué)工程物理系教授唐傳祥研究組與合作團(tuán)隊(duì)在《自然》上發(fā)表了題為《穩(wěn)態(tài)微聚束原理的實(shí)驗(yàn)演示》研究論文系統性，報(bào)告了一種新型粒子加速器光源“穩(wěn)態(tài)微聚束”(SSMB)的原理驗(yàn)證實(shí)驗(yàn)勇探新路。

　　SSMB的工作原理是首先將電子束送入一個(gè)環(huán)形加速器，當(dāng)電子在運(yùn)行時(shí)傳遞，加速器的磁場(chǎng)會(huì)讓電子在改變運(yùn)動(dòng)方向的同時(shí)釋放同步輻射試驗，該輻射會(huì)因?yàn)樗p而產(chǎn)生輻射阻尼，繼而使得電子振幅越來(lái)越小開展攻關合作，隨之讓電子束流的尺寸變小成為微聚束製度保障。而研究團(tuán)隊(duì)的實(shí)驗(yàn)證明了電子的光學(xué)相位能以短于激光波長(zhǎng)的精度逐圈關(guān)聯(lián)起來(lái)，使得電子可被穩(wěn)態(tài)地舒服在激光形成的光學(xué)勢(shì)井中的有效手段。

　　該成果引起了社會(huì)的高度關(guān)注統籌推進，主要是因?yàn)镾SMB光源的潛在應(yīng)用之一是作為未來(lái)EUV光刻機(jī)的光源。唐傳祥研究員指出關鍵技術，基于SSMB的EUV光源實(shí)現(xiàn)了更大的平均功率了解情況，這為大功率EUV光源的突破提供了全新的解決思路。而這一技術(shù)有效解決了光刻機(jī)研發(fā)的核心難題技術研究。

　　光刻機(jī)重要的，又稱為掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)開展研究、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等相互融合，它采用類似照片沖印的技術(shù)首要任務，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。目前不同需求，作為光刻機(jī)生產(chǎn)的主要廠家——ASML公司采用的是高能脈沖激光轟擊液態(tài)錫靶形式，形成等離子體然后產(chǎn)生波長(zhǎng)13.5納米的EUV光源。而基于SSMB的EUV光源有望實(shí)現(xiàn)更大的平均功率資源配置，使得更短波長(zhǎng)的擴(kuò)展?jié)摿Φ玫搅思ぐl(fā)信息，這能為大功率EUV光源的突破提供全新的解決思路，繼而研發(fā)出更多5nm及以下的芯片大力發展。

　　光刻機(jī)在芯片生產(chǎn)上可謂是主要工具豐富內涵，但我國(guó)光刻技術(shù)不僅落后于西方國(guó)家，也很難獨(dú)立用于芯片的制作產能提升。受國(guó)產(chǎn)技術(shù)的水平和光刻機(jī)進(jìn)口的限制適應性，我國(guó)芯片的研發(fā)生產(chǎn)工藝也遠(yuǎn)落后于國(guó)外，但本次發(fā)布的SSMB技術(shù)可謂是為EUV光刻機(jī)奠定了技術(shù)基礎(chǔ)通過活化，這為將來(lái)不被“卡脖子”掃平了一個(gè)障礙落地生根。相信隨著SSMB光源能應(yīng)用于EUV光刻領(lǐng)域后，國(guó)產(chǎn)EUV光刻機(jī)或?qū)⒂瓉?lái)發(fā)展希望健康發展。

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