真空快速退火爐AS-One是一種通用的RTP系統(tǒng)有很大提升空間，可用于開發(fā)快速熱退火和快速熱CVD工藝運行好。
 

　　真空快速退火爐AS-One可以搭配分子泵實現(xiàn)高真空下熱處理工藝首次。
 

　　溫度1500 ℃，升溫速率200℃/Second部署安排。
 

　　全程PC軟件控制升溫程序提升，保證溫度不過沖，控溫精度準(zhǔn)確的必然要求。
 

　　應(yīng)用：
 

　　•    RTA(快速熱退火)
 

　　•    RTO(快速熱氧化)
 

　　•    歐姆接觸退火
 

　　•    植入退火
 

　　•    石墨烯和hBN的快速熱化學(xué)氣相沉積RTCVD
 

　　•    硒化，硫化
 

　　•    結(jié)晶和致密化
 

　　產(chǎn)品特點：
 

　　1取得了一定進展、 紅外鹵素?zé)艄芗訜嵬晟坪?，冷卻采用風(fēng)冷(低噪音水平，無需壓縮空氣)積極參與；
 

　　2問題分析、加熱由功率控制而非電壓控制，避免了由于燈絲老化電阻改變導(dǎo)致的后續(xù)使用中加熱不均的問題交流研討，保證了良好的重現(xiàn)性及均溫性更加完善，即使在后續(xù)使用過程中更換了部分新的燈管也可以達到初的熱處理效果；
 

　　3建設應用、石英腔體支撐作用，腔體冷卻采用水冷，冷壁設(shè)計動力，雙層不銹鋼同時；
 

　　冷壁水冷技術(shù)優(yōu)點在于：1、無記憶效高性，2模式、工藝重復(fù)性高，3提升、冷卻速度快高品質；
 

　　4、反應(yīng)腔室的設(shè)計支撐能力，氣體的進入口設(shè)計在wafer的表面資源優勢，避免在退火過程中冷點的產(chǎn)生。很好的保證了樣品在加熱過程中的均溫性特征更加明顯；
 

　　5長效機製、快速數(shù)字PID控溫；
 

　　6數字技術、熱電偶配合高溫計控溫奮戰不懈，測試樣品的溫度，控溫精準(zhǔn)措施；
 

　　7取得顯著成效、大氣和真空工藝均適合新模式，凈化氣體配針閥；
 

　　8不容忽視、多5路工藝氣體組織了，配數(shù)字質(zhì)量流量控制器；
 

　　9說服力、電腦通過以太網(wǎng)連接更快的數(shù)據(jù)傳輸速度搶抓機遇；
 

　　10、可選配石墨托盤表面涂SiC薄膜設(shè)計表示，用于小樣品測試全面闡釋；
 

　　11、可選配分子泵競爭力所在，用于高真空測試引人註目。
 

　　產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)配置及規(guī)格參數(shù)：
 

　　1、樣品大尺寸：AS-One100：4-inch溝通機製；AS-One150 ：6-inch好宣講；
 

　　2、溫度范圍：AS-One100室溫~1250 ℃領先水平；(室溫~1500 ℃可選)
 

　　AS-One150室溫~1200 ℃；(室溫~1300 ℃可選)
 

　　3、升溫速率：AS-One100 ：0.1 ℃~250 ℃/s 戰略布局；
 

　　AS-One150 ：0.1 ℃~200 ℃/s 長遠所需；
 

　　4、溫度控制：快速數(shù)字PID控制讓人糾結；
 

　　5規模、熱電偶：2個K型熱電偶；
 

　　6基石之一、低溫高溫計溫度范圍：150℃~1100 ℃聯動；
 

　　7、高溫高溫計溫度范圍：400℃~1500 ℃共同努力；
 

　　8行業內卷、工藝氣體氣路配質(zhì)量流量計；
 

　　9逐漸完善、配置真空泵及真空規(guī)參與能力。