一幅度、 KDH-500非自耗真空電弧熔煉爐設(shè)備用途：

用于熔煉高熔點金屬/合金結構，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校貢獻、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備規模最大。

二、 KDH-500非自耗真空電弧熔煉爐設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：

1統籌、型號：KDH-500

2系統性、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室

3、真空系統(tǒng)配置：飛越VRD-30直聯(lián)泵單產提升、JTFB-1200分子泵傳遞、高真空氣動擋板閥和各種管路真空系統(tǒng)

4、冷態(tài)極限真空度：6.7x10E-4Pa

5勞動精神、熔煉電流：額定電流≤500A

6開展攻關合作、引弧方式：高頻脈沖引弧

7、熔煉坩堝：共有5工位預下達，有3個￠70*35半球形工位窩的有效手段，***容重（樣品重量）50-130(克），2個￠50*35一個吸鑄工位責任，一個電磁攪拌工位應用情況。帶翻料機(jī)構(gòu)，可以翻料重熔和轉(zhuǎn)移樣品

8組建、帶吸鑄工位表現，容重（樣品重量）50-80(克）吸鑄模具滑配設(shè)計方便拆卸。

9深刻變革、工作氣體：Ar氣結論；

10、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧

11質生產力、電極桿和機(jī)械手均采用球密封機(jī)構(gòu)適應性強，簡便有效；電極桿電動升降先進的解決方案，操作便攜

12拓展、爐體側(cè)部開門，裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便宣講活動，門上有操作觀察窗方便看清內(nèi)部熔化情況不斷進步。