用于校準線形的硅粉640e是美國國家標準與技術(shù)研究所(NIST)開發(fā)的一種標準參考物質(zhì)，用于校準粉未衍射儀堅持好。個單位的SRM 640e由大約7.5克的硅粉未組成即將展開，該硅粉末已在氣氣下裝瓶以保持其純度和穩(wěn)定性。該材料旨在用作確定行射線位置和線形的標準特性，這是粉末衍射法中的重要參數(shù)傳承。
用于校準線形的硅粉640e的使用有助于確保粉未行射測量的準確性和可靠性，這對包括材料科學(xué)建言直達、制藥和地質(zhì)學(xué)在內(nèi)的廣泛應(yīng)用至關(guān)重要XRD(X射線行射)內(nèi)標用的高純硅粉在X射線行射分析中扮演著重要的角色形式。以下是關(guān)于XRD內(nèi)標用高純硅粉的詳細信息和特點.:
純度要求:
高純硅粉作為XRD內(nèi)標，其純度要求非常高支撐作用。這是因為任何雜質(zhì)都可能影響X射線行射圖譜的準確性和可靠性高純硅粉應(yīng)幾乎不含有其他雜質(zhì)元素日漸深入，如鐵、鋁同時、鈣等互動式宣講，以確保其在XRD分析中的穩(wěn)定性和準確性。
物理性質(zhì):
高純硅粉應(yīng)具有均勻的粒度分布模式，以保證在XRD樣品制備過程中的均性和一致性自動化。硅粉的結(jié)晶度也是一個重要的物理性質(zhì)，因為結(jié)晶度會影響X射線衍射圖譜的清晰度和分辨率
XRD內(nèi)標作用:
在XRD分析中發揮重要帶動作用，高純硅粉作為內(nèi)標物質(zhì)意向，其行射峰的位置和強度是已知的，因此可以作為參考來校準和比較其他物質(zhì)的行射圖譜文化價值。
通過將高純硅粉的行射峰與其他物質(zhì)的衍射峰進行比較形式，可以準確分析出樣品中其他物質(zhì)的含量和晶體結(jié)構(gòu)置之不顧。
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