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　　原子力顯微鏡AFM是一種納米級高分辨的掃描探針顯微鏡。原子力顯微鏡通過檢測待測樣品表面和一個微型力敏感元件之間的極微弱的原子間相互作用力來研究物質(zhì)的表面結(jié)構(gòu)及性質(zhì)^戰不懈，F(xiàn)已廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體市場開拓、納米功能材料、生物大大縮短、化工要落實好、食品、醫(yī)藥研究和科研院所各種納米相關(guān)學(xué)科的研究實驗等領(lǐng)域中更默契了，成為納米科學(xué)研究的基本工具先進技術。
 

　　原理：
 

　　當(dāng)原子間距離減小到一定程度以后，原子間的作用力將迅速上升不合理波動。因此宣講手段，由顯微探針受力的大小就可以直接換算出樣品表面的高度，從而獲得樣品表面形貌的信息積極拓展新的領域。
 

　　原子力顯微鏡的特點：
 

　　1.高分辨力能力遠遠超過掃描電子顯微鏡(SEM)配套設備，以及光學(xué)粗糙度儀。樣品表面的三維數(shù)據(jù)滿足了研究多種方式、生產(chǎn)對外開放、質(zhì)量檢驗越來越微觀化的要求。
 

　　2.非破壞性深入交流研討，探針與樣品表面相互作用力為10-8N以下資料，遠比以往觸針式粗糙度儀壓力小，因此不會損傷樣品關註度，也不存在掃描電子顯微鏡的電子束損傷問題橫向協同。另外掃描電子顯微鏡要求對不導(dǎo)電的樣品進行鍍膜處理，而原子力顯微鏡則不需要。
 

　　3.應(yīng)用范圍廣不斷創新，可用于表面觀察建立和完善、尺寸測定、表面粗糙測定參與水平、顆粒度解析大型、突起與凹坑的統(tǒng)計處理、成膜條件評價明確相關要求、保護層的尺寸臺階測定重要意義、層間絕緣膜的平整度評價、VCD涂層評價深化涉外、定向薄膜的摩擦處理過程的評價體系、缺陷分析等。
 

　　4.軟件處理功能強參與能力，其三維圖象顯示其大小合理需求、視角、顯示色充分發揮、光澤可以自由設(shè)定高質量。并可選用網(wǎng)絡(luò)、等高線提高、線條顯示機構。圖象處理的宏管理，斷面的形狀與粗糙度解析交流，形貌解析等多種功能基礎。