磁控離子濺射儀
產(chǎn)品介紹：
離子濺射儀或是噴金儀是一種利用真空鍍膜技術(shù)開(kāi)發(fā)研制成高科技產(chǎn)品，作為掃描電鏡所需要的一款制樣儀器增幅最大，可以配合掃描電子顯微鏡很方便的觀測(cè)試樣的微觀形貌共享應用，從而提高試樣的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性。該儀器為全閉環(huán)真空設(shè)計(jì)配有全量程皮拉尼真空計(jì)等多個(gè)傳感器實(shí)時(shí)監(jiān)控運(yùn)行狀態(tài)標準，保證儀器安全穩(wěn)定運(yùn)行示範推廣。自動(dòng)磁控離子濺射儀采用高性能旋真空泵快速獲得<1Pa的真空環(huán)境，高精度的濺射電源采用恒流控制來(lái)保證高精細(xì)的膜層質(zhì)量即將展開。同時(shí)平面磁控測(cè)射陰極減少等離子體對(duì)試樣表面的轟擊和熱效應(yīng)大幅增加，高性能的平面磁控濺射陰極可實(shí)現(xiàn)多種靶材的選擇 (Au、Pt傳承、Ag等特點、Pd等)，高精度的納米涂層為納米級(jí)別多種，可滿足現(xiàn)代分析實(shí)驗(yàn)要求建設應用。可用于制備高質(zhì)量的金屬薄膜日漸深入、半導(dǎo)體薄膜動力、介電、絕緣材料薄膜以及復(fù)合薄膜互動式宣講、多層異質(zhì)結(jié)等效高性。
應(yīng)用領(lǐng)域：
光學(xué)領(lǐng)域：中頻閉場(chǎng)非平衡磁控濺射技術(shù)應(yīng)用于光學(xué)薄膜（如減反射膜）、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃自動化；
微電子領(lǐng)域：用于沉積具有吸收提升、透射高品質、反射、折射意料之外、偏振等功能的薄膜文化價值，如低溫下沉積氮化硅增透膜以提高太陽(yáng)能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
高溫超導(dǎo)薄膜置之不顧、鐵電薄膜不斷完善、巨磁阻薄膜等領(lǐng)域：磁控濺射技術(shù)在這些領(lǐng)域的研究中發(fā)揮著重要作用；
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