雙折射輸入面
準(zhǔn)確的進(jìn)行雙折射光線的追跡要比追跡普通光線復(fù)雜的多：我們必須分別考慮尋常光和非尋常光的折射率和波矢方向。因此雙折射光線追跡功能只在光線入射到雙折射輸入 (Birefringent-In) 表面時(shí)開始執(zhí)行系統穩定性，在雙折射輸出 (Birefringent-Out) 表面結(jié)束拓展基地。并且在雙折射輸入和雙折射輸出表面之間只允許存在坐標(biāo)間斷 (Coordinate Break) 表面。
在尋常光追跡中實力增強，光線向量S和波矢k的方向一致體系流動性，因此OpticStudio使用尋常光的波矢k的分量來定義光線的方向余弦。
在非尋常光追跡中重要工具，k積極拓展新的領域、S和晶軸向量a處于同一平面但不重合配套設備，因此使用S的分量定義光線的方向余弦更優質。
以下為模擬一塊方解石晶體雙折射的示例相對開放，其中虛線表示晶軸：
入射光線入射到方解石晶體上并分裂為兩個(gè)方向的光線。其中尋常光線產(chǎn)生正常的折射脫穎而出，由于入射表面為平面拓展應用，因此光線沒有發(fā)生偏折。非尋常光線則產(chǎn)生雙折射結構，因此即便光線正入射平面也產(chǎn)生了偏折管理。
下圖為OpticStudio中有關(guān)雙折射晶體的設(shè)置：
光線在入射到雙折射輸入面之前都是按照正常情況進(jìn)行光線追跡。雙折射輸入表面與標(biāo)準(zhǔn)表面一樣（可定義為圓錐面）能力建設，此時(shí)材料使用的是CALCITE模樣，OpticStudio將使用該材料折射率進(jìn)行尋常光光線追跡。OpticStudio將在相同的材料庫中尋找材料名為CALCITE-E的材料服務，并使用該材料折射率進(jìn)行非尋常光光線追跡很重要。通過使用兩種實(shí)際材料，追跡過程可以考慮材料的所有屬性（透過率覆蓋、色散和熱膨脹屬性等）異常狀況。
晶軸方向與表面法向量的夾角在雙折射輸入表面中定義：
在雙折射輸入面的局部坐標(biāo)系下直接輸入晶軸的方向余弦。其中參數(shù)“顯示軸線 (Draw Axis)”用來定義布局圖中表示晶軸的虛線的長度（透鏡單位）高效。如果您不想顯示晶軸則設(shè)置該參數(shù)為零即可應用創新。
您可能會(huì)對(duì)布局圖中的結(jié)果存在一些疑問：光線因雙折射而分裂為尋常光和非尋常光兩個(gè)分量，但是在序列模式下光線是無法產(chǎn)生分裂的（這意味著輸入一條光線時(shí)輸出也是一條光線）機構。實(shí)際上OpticStudio執(zhí)行了兩次光線追跡分別追跡兩種情況的特性，并使用模式參數(shù) (Mode Flag) 來決定當(dāng)前光線追跡的類型：
1、如果模式參數(shù)為0攜手共進，則將追跡尋常光線
2是目前主流、如果模式參數(shù)為1，則將追跡非尋常光線
上文中顯示的布局圖同時(shí)顯示了多重結(jié)構(gòu)下模式參數(shù)為0和模式參數(shù)為1的結(jié)構(gòu)：
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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