大家早上好,西安米拓檢測技術(shù)有限公司的小編又上線了自然條件,今天小編給大家?guī)淼氖歉軠y量儀的一些注意事項設計標準,大家可以了解一下哦。
(一)市場常見的根管測量儀橫向?qū)Ρ?/p>
根管測量儀的品牌有很多互動互補,國產(chǎn)進口都有發揮重要帶動作用。價格更是從幾百元到幾千元不等,那么這些根測儀到底有什么區(qū)別呢?
首先,對進口根管測量儀與國產(chǎn)根管測量儀進行對比
1成就、進口根測均采用“多頻定位”技術(shù)測定根尖長度重要方式,而國產(chǎn)根測采用“阻抗”技術(shù)。
2系統、產(chǎn)品制造工藝不同非常重要、質(zhì)量不同。進口的產(chǎn)品很少出故障空間廣闊,國產(chǎn)的產(chǎn)品易出問題營造一處。
3、價格方面知識和技能。進口根測價格更高取得顯著成效,國產(chǎn)根測定位為經(jīng)濟型新模式。
其次,對進口間根管測量儀進行對比
1不容忽視、森田自動控制系統(tǒng)為產(chǎn)品亮點;VDW測量精度非常高;登士柏設(shè)計人性化操作便捷
2組織了、森田和登士柏根測屬于同檔產(chǎn)品,價格大約在6000元左右說服力,適合大眾門診使用搶抓機遇。VDW相對價格較高,市場價格約在8000元左右新體系。
3投入力度、進口根測測量真的不受根管環(huán)境影響嗎?
有這個疑問的朋友不少。
從技術(shù)上講進口的用的是“多頻定位技術(shù)”不難發現,這個技術(shù)的實質(zhì)就是向牙根區(qū)域發(fā)射特定頻率的波貢獻法治,這種波可以探測只有在牙齒根管中才存在的一種微量物質(zhì),所以所這個技術(shù)可以保證準(zhǔn)確的測量出根管的長度發展需要。
國產(chǎn)產(chǎn)品大多用“阻抗技術(shù)”攻堅克難,實質(zhì)就是通過測量牙根區(qū)域電阻的大小來,根據(jù)電阻的變化來判斷牙根長度顯示,電阻導(dǎo)電靠的是電解液的存在生動,電解液的濃度肯定會影響到電阻值大小,所以根管的干濕及殘髓血液等會對測量值產(chǎn)生較大影響創新能力。
建議:根測前,盡量清潔根管範圍,用氯化鈉溶液沖洗根管求得平衡,保持根管有一定的濕潤度,配合牙片機空間廣闊,便于更準(zhǔn)確無誤的獲得根管長度值至關重要。
國內(nèi)市場上,森田度較高服務品質,森田根測有1代和2代產(chǎn)品的發生,講下區(qū)別,方便各位牙醫(yī)選購:
(1)1代只有根測系統(tǒng)影響,不能追加自動擴根模塊新的動力。2代除根測可以單獨工作外,還可以增加一個自動擴跟系統(tǒng)發展契機,一體性很強廣泛關註。
(2)1代屏幕只有圖像顯示,無數(shù)字顯示發力。二代都有優勢領先。
(二)根管測量儀使用過程的幾項注意
根管測量儀在使用過程需注意:
1迎來新的篇章、治療齒尤其是羧化后;剛拔髓根管內(nèi)有滲血;
2、殘冠或殘根位于齦下齦溝液多;
3推動並實現、根折;
4薄弱點、根內(nèi)息肉,牙齦息肉;
5積極回應、金屬冠內(nèi)需治療齒;
6重要性、戴及電刀正使用中;
這些情況不能應(yīng)用測量儀因為滲血齦溝液金屬等影響測量儀電流通路造成電流反應(yīng)影響其數(shù)值,使用中要嚴(yán)格的隔濕平臺建設,根管中放1/3電解液服務機製,選擇好適應(yīng)證 剛拔髓后可用擴大針感覺一下并在無血的情況下測量盡量增加其正確率。
另外使用,根管測量儀測量一個大概長度后插針攝牙片會更加準(zhǔn)確大幅拓展,避免一些意外發(fā)生。
以上即是小編今天帶來的全部內(nèi)容更加堅強,大家有想要了解的可以咨詢西安米拓檢測技術(shù)有限公司
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:儀器網(wǎng)”的所有作品與時俱進,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的奮戰不懈,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用集成應用,并注明“來源:儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者應用領域,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息服務水平,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任技術創新。其他媒體處理方法、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源持續向好,并自負版權(quán)等法律責(zé)任習慣。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題進展情況,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系的積極性,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
第二十一屆北京分析測試學(xué)術(shù)報告會暨展覽會(BCEIA 2025)
展會城市:北京市展會時間:2025-09-10