韓國(guó)電鍍膜厚檢測(cè)儀精度高
應(yīng)用領(lǐng)域
分析各種電鍍鍍層厚度
鍍層檢測(cè)：
2.1科普活動、常見(jiàn)金屬鍍層有：
鍍層 基體 | Ni | Ni-P | Ti | Cu | Sn | Sn-Pb | Zn | Cr | Au | Zn-Ni | Ag | Pd | Rh |
Al | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
Cu | ● | ● | ● |
| ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
Zn | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
| ● | ● | ● | ● | ● | ● |
Fe | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
SUS | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
2.2創新延展、單層厚度范圍：
金鍍層0－8um,
鉻鍍層0-15um,
其余一般為0-30um以內(nèi)，
可最小測(cè)量達(dá)0.001um長期間。
2.3基本情況、多層厚度范圍
Au/Ni/Cu : Au分析厚度:0-8um Ni分析厚度:0-30um
Sn/Ni/Cu: Sn分析厚度:0-30um Ni分析厚度:0-30um
Cr/Ni/Fe: Cr分析厚度0-15um Ni分析厚度:0-30um
2.4、鍍層層數(shù)為1-6層
2.5高端化、鍍層精度相對(duì)差值一般<5%力量。
2.6、鍍層成分含量：Sn-Pb合金成分分析提單產；Zn-Ni合金成分分析深入實施。
單層分析精度，以Ni舉例：（相對(duì)差值）
Ni層厚度(um) | 保證精度 |
<1.0um | <5% |
1.0-5.0um | <3% |
5.0-10um | <3% |
10-20um | <3% |
>20.0um | <3% |
技術(shù)指標(biāo)
多鍍層分析發展空間，1～5層效果；
測(cè)試精度：0.001 μm；
元素分析范圍從鋁(Al)到鈾(U)足了準備；
測(cè)量時(shí)間：10~30秒合作關系；
SDD探測(cè)器，能量分辨率為125±5eV深刻內涵；
探測(cè)器Be窗0.5mil（12.7μm）傳遞；
微焦X射線管50kV/1mA，鉬交流等，銠靶（高配微焦鉬靶）更加廣闊；
6個(gè)準(zhǔn)直器及多個(gè)濾光片自動(dòng)切換；
高清CCD攝像頭（200萬(wàn)像素）提高，準(zhǔn)確監(jiān)控位置可以使用；
多變量非線性去卷積曲線擬合進入當下；
高性能FP/MLSQ分析；
儀器尺寸：450×520×385mm稍有不慎。
圖譜界面
軟件支持無(wú)標(biāo)樣分析重要作用；
寬大分析平臺(tái)和樣品腔；
集成了鍍層分析界面和合金成份分析界面最為顯著；
采用多種光譜擬合分析處理技術(shù)尤為突出；
鍍層測(cè)厚分析可達(dá)到0.001μm。
分析報(bào)告結(jié)果
直接打印分析報(bào)告環境；
報(bào)告可轉(zhuǎn)換為PDF空間載體，EXCEL格式。
韓國(guó)電鍍膜厚檢測(cè)儀精度高
