金剛石研磨膏均采用進(jìn)口高品級大顆粒金剛石晶體為原料，采用***的粉體制備技術(shù)分選出粒度分布極窄的金剛石微粉（納米級和微米級）實現了超越，嚴(yán)格受控的納米和微米級的單晶金剛石晶形控制系統(tǒng)新產品，讓每一顆粒子的近似圓值都近乎，成功參與研磨與拋光過程創新能力，得到更高質(zhì)量再現(xiàn)性

金剛石研磨膏均采用進(jìn)口高品級大顆粒金剛石晶體為原料新品技，采用***的粉體制備技術(shù)分選出粒度分布極窄的金剛石微粉（納米級和微米級），嚴(yán)格受控的納米和微米級的單晶金剛石晶形控制系統(tǒng)求得平衡，讓每一顆粒子的近似圓值都近乎紮實做，成功參與研磨與拋光過程，得到更高質(zhì)量再現(xiàn)性至關重要。金剛石均勻分布在膏狀載體中提供深度撮合服務，具有自潤滑功能,可配合拋光布.棉花、羊毛磨頭的發生、拋光輪使用事關全面。

適用范圍

適用于硬質(zhì)合金、金相分析狀態、光學(xué)鏡片、玻璃和晶體指導、超硬陶瓷廣泛認同、珠寶首飾、工藝品牙科材料（義齒）等,高硬材料制成的量具流動性、刃具鍛造、模具競爭激烈、光學(xué)儀器、光學(xué)模具改善、注塑模具等產(chǎn)品空白區。

產(chǎn)品特點(diǎn)

快速拋光，使用方便,具有高效信息化，方便形勢，無污染，不腐蝕等特點(diǎn),可替代進(jìn)口取得明顯成效。

產(chǎn)品規(guī)格

W40（320目）粗磨拋光,    W28（400目）普通拋光 ,     W20（600目）普通拋光     

W14（800目）普通拋光,  W10,（1000目）普通拋光,     W7（1500目） 精細(xì)拋光.

W5（2000目） 精細(xì)拋光    W3.5（3000目）精細(xì)拋光 , W2.5（4000目）精細(xì)拋光   

W1.5（6000目),鏡面拋光, W1（8000目）鏡面拋光,     W0.5（10000目）鏡面拋光

W0.25(12000目）鏡面精拋

注：其中W0.25最細(xì)約定管轄，W40最粗，

由粗到細(xì)分別可用于研磨創新的技術，精磨發揮，拋光，精拋快速增長，可出鏡面效果與時俱進。

包裝：5克/支   50克/盒    500克/盒   1000克/盒。