XTU-BLX熒光光譜儀型號：XTU-BL測量面積：最小0.002mm鍍層分析：23層鍍層24種元素儀器特點(diǎn)：可手動變焦儀器優(yōu)勢：同元素不同層分析服務(wù)宗旨：專注研發(fā)

儀器簡介：

XTU-BL是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊結構不合理，模塊精密化程度的鍍層測厚儀動手能力，采用了下照式C型腔體設(shè)計(jì)，不但可以測量各種微小樣品意見征詢，即使大型超出樣品腔尺寸的工件也可測量提升，是一款測量涂鍍層成分及厚度性價比高、適用性強(qiáng)的機(jī)型的必然要求。

該系列儀器使用于平面研究成果、微小樣品或者微凹槽曲面深度30mm以內(nèi)的樣品涂鍍層檢測。

被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控完善好、來料檢驗(yàn)和對生產(chǎn)工藝控制的測量使用大面積。

產(chǎn)品優(yōu)勢：

技術(shù)參數(shù)：

1. 元素分析范圍：氯（Cl）- 鈾（U）

2. 涂鍍層分析范圍：氯（Cl）/鋰（Li）- 鈾（U）

3. 厚度檢出限：0.005μm

4. 成分檢出限：1ppm

5. 最小測量直徑0.05mm（最小測量面積0.002mm²）

6. 對焦距離：0-30mm

7. 樣品腔尺寸：500mm*360mm*215mm

8. 儀器尺寸：550mm*480mm*470mm

9. 儀器重量：50KG

10. XY軸工作臺移動范圍：50mm*50mm

11. XY軸工作臺承重：20KG

應(yīng)用領(lǐng)域：

多元迭代EFP核心算法（號：2017SR567637）

專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上，計(jì)算樣品中每個元素的一次熒光問題分析、二次熒光培養、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)更加完善、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法形式，結(jié)合的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)支撐作用，只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子日漸深入，可測試重復(fù)鍍層、非金屬大力發展、輕金屬豐富內涵、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應(yīng)用：如Ni/Fe產能提升、Ag/Cu等

多涂鍍層應(yīng)用：如Au/Ni/Fe適應性、Ag/Pb/Zn等

合金鍍層應(yīng)用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應(yīng)用：如NiP/Fe通過活化，通過EFP算法落地生根，在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時，還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例健康發展。

重復(fù)鍍層應(yīng)用：不同層有相同元素有效保障，也可精準(zhǔn)測量和分析。

如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB長效機製，層Ni和第三層Ni的厚度均可測量講實踐。

選擇一六儀器的四大理由：

1.一機(jī)多用，無損檢測

2.最小測量面積0.002mm²

3.可檢測凹槽0-30mm的異形件

4.輕元素營造一處，重復(fù)鍍層改革創新，同種元素不同層亦可檢測

配置清單：