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X熒光光譜分析儀 XAD

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產(chǎn)品類型:能量色散X熒光光譜分析儀產(chǎn)品名稱:光譜分析儀產(chǎn)品型號:XAD產(chǎn)品優(yōu)勢:XAD是一款全元素上照式熒光光譜儀有很大提升空間,可測量納米級厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚首次,可選配自動平臺實現(xiàn)XYZ軸編程位移可能性更大,實現(xiàn)無人值守多點測量,測量軟件置入的EFP算法及解譜技術(shù)方案,解決了諸多業(yè)界難題

詳細(xì)信息 在線詢價

產(chǎn)品類型:能量色散X熒光光譜分析儀

產(chǎn)品名稱:光譜分析儀

產(chǎn)品型號:XAD

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產(chǎn)品優(yōu)勢:

XAD是一款全元素上照式熒光光譜儀關鍵技術,可測量納米級厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚研究成果,可選配自動平臺實現(xiàn)XYZ軸編程位移取得了一定進展,實現(xiàn)無人值守多點測量,測量軟件置入的EFP算法及解譜技術(shù)大面積,解決了諸多業(yè)界難題積極參與。

被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗和對生產(chǎn)工藝控制的測量使用培養。

 

1)搭載微聚焦加強(qiáng)型X射線發(fā)生器和的光路轉(zhuǎn)換聚焦系統(tǒng)交流研討,最小測量面積達(dá)0.03mm2

2)擁有無損變焦檢測技術(shù),手動變焦功能形式,可對各種異形凹槽件進(jìn)行無損檢測建設應用,凹槽深度范圍0-90mm

3)核心EFP算法,可對多層多元素日漸深入,包括同種元素在不同層都可快動力、準(zhǔn)同時、穩(wěn)的做出數(shù)據(jù)分析(釹鐵硼磁鐵上Ni/Cu/Ni/FeNdB,精準(zhǔn)檢測層Ni和第三層Ni的厚度)

4)配備高精密微型移動滑臺效高性,可實現(xiàn)多點位模式、多樣品的精準(zhǔn)位移和同時檢測

5)裝配Si-Pin半導(dǎo)體探測器,即便測量0.03mm2以下的樣品提升,幾秒鐘也可達(dá)到穩(wěn)定性

6)涂鍍層分析范圍:鋰Li(3)- 鈾U(92)

7)成分分析范圍:鋁Al(13)- 鈾U(92)

8)人性化封閉軟件高品質,自動判斷故障提示校正及操作步驟,避免誤操作

9)四準(zhǔn)直器可選支撐能力,最小測量面積可達(dá)0.03mm2

10)配有微光聚集技術(shù)資源優勢,最近測距光斑擴(kuò)散度小于10%

 

儀器配置:

1. 微聚焦加強(qiáng)型X射線管:高穩(wěn)定性X射線發(fā)生器

        —鈹窗口,油絕緣大數據,氣冷式長效機製,輻射安全電子管屏蔽

        —50kV,1mA數字技術,高壓和管流設(shè)定為應(yīng)用程序提供更好的性能

        —符合DIN ISO 3497奮戰不懈、DIN 50987和ASTM B 568射線標(biāo)準(zhǔn),如有特殊要求措施,也可協(xié)商定制

2. 接收器:Si-Pin半導(dǎo)體探測器(也可選配大窗口SDD探測器)

        —窗口面積≥25mm2

3. 光路轉(zhuǎn)換器

        —φ0.3mm(標(biāo)配)大大縮短,φ0.2mm,φ0.5mm和□0.1*0.3mm多準(zhǔn)直器可選

4. 定制專享高敏感鏡頭

        —1/2.7”彩冊CCD高敏感可變焦鏡頭緊密相關,全局快門更默契了,有效像素:1280*960,光學(xué)18-46X服務體系,數(shù)字放大20-200倍  

5. 恒壓恒流快門式光閘

    —擁有高壓電源緊急自鎖功能說服力,帶給您更安全的防護(hù)

6. 移動平臺

        —手動高精密XY移動滑臺,移動范圍100mm*150mm分析,精度0.01mm表示,可承重15KG

7. 全新一代高壓電源

—性能穩(wěn)定可靠,高達(dá)50W的功率實現(xiàn)更高的測試效率

8. 對流通風(fēng)式過濾風(fēng)冷

—的散熱系統(tǒng)配備非常激烈,儀器即便全天候開啟競爭力所在,都可保持恒溫恒效

9. 隨附標(biāo)準(zhǔn)片

        —免費提供十二元素片、五選二標(biāo)準(zhǔn)片( Ni/Cu 2um領域、Ni/Fe 5um溝通機製、Au/XX 0.05um、Ag/XX 0.5um註入新的動力、Cr/XX 0.15um)領先水平、其他規(guī)格(選配)

10. 其他配置

        —電腦一套、打印機(jī)雙重提升、附件箱橋梁作用、電鍍液測量杯(選配)


技術(shù)參數(shù):

1. 成分分析范圍:鋁(Al)- 鈾(U)

2. 成分檢出限:5ppm

3. 涂鍍層分析范圍:鋰(Li)- 鈾(U)

4. 涂鍍層檢出限:0.005μm

5. 最小測量直徑□0.1*0.3mm(最小測量面積0.03mm2)

6. 對焦距離:0-90mm

7. 樣品腔尺寸:530mm*570mm*145mm

8. 儀器尺寸:550mm*760mm*635mm

9. 儀器重量:100KG

10. XY軸工作臺移動范圍:100mm*150mm

11. XY軸工作臺承重:15KG

12. 多元迭代EFP核心算法(號:2017SR567637)

專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上長遠所需,計算樣品中每個元素的一次熒光求索、二次熒光讓人糾結、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)穩定發展、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法基石之一,結(jié)合的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)增持能力,只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子共同努力,可測試重復(fù)鍍層、非金屬追求卓越、輕金屬逐漸完善、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應(yīng)用:如Ni/Fe合理需求、Ag/Cu等

多涂鍍層應(yīng)用:如Au/Ni/Fe是目前主流、Ag/Pb/Zn等

合金鍍層應(yīng)用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應(yīng)用:如NiP/Fe高質量,通過EFP算法充分發揮,在計算鎳磷鍍層厚度的同時,還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例共創美好。

重復(fù)鍍層應(yīng)用:不同層有相同元素推動並實現,也可精準(zhǔn)測量和分析。

如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB覆蓋範圍,層Ni和第三層Ni的厚度均可測量優化程度。


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