M系列全譜直讀光譜儀采用的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù)迎來新的篇章，全數(shù)字化及互聯(lián)網(wǎng)技術(shù)結(jié)合，運(yùn)用高分辯率CMOS檢測(cè)器推動並實現，精密設(shè)計(jì)的氬氣吹掃系統(tǒng)薄弱點，使儀器具有高性能、低成本優化程度、以及具竟?fàn)幜Φ膬r(jià)格積極性。
M4應(yīng)用于多基體的、高性能的全譜直讀光譜儀
01 極其優(yōu)異的分析性能取得明顯成效、非常緊湊的儀器結(jié)構(gòu)
02 用于多種基體約定管轄、多種材料的分析數據，分析范圍覆蓋了幾乎所有的重要元素創新的技術，可以滿足絕大多數(shù)現(xiàn)代鑄造業(yè)的應(yīng)用需求。
03 高亮度全息光柵具備3600條/mm刻線顯著，使得分光系統(tǒng)具有的分辯率快速增長。
04 氬氣吹掃光室配置了優(yōu)化設(shè)計(jì)的低流速吹氬系統(tǒng)，既保證低的使用成本又保證佳的紫外區(qū)的透過(guò)率性能。
05 應(yīng)用高分辯率多CMOS讀出系統(tǒng)初步建立，低的暗電流、好的檢出限供給、高的穩(wěn)定性的方法、強(qiáng)的靈敏度。
06 全數(shù)字化的智能復(fù)合光源DDD技術(shù)進行探討，充分滿足不同基體落到實處、不同樣品以及不同元素的激發(fā)要求。
07 一體式開放火花臺(tái)最新，可以滿足各種不同樣品結(jié)構(gòu)的分析技術創新。
08 配置多條工廠校正曲線及更多的材料分析方法和解決方案處理方法。
09 可根據(jù)用戶的材料要求，延長(zhǎng)標(biāo)準(zhǔn)曲線的測(cè)量上持續向好、下限習慣。
精密設(shè)計(jì)的氬氣吹掃系統(tǒng)
光室密封性強(qiáng)，可保持內(nèi)部氬氣長(zhǎng)期純凈進展情況。
光室空間優(yōu)化設(shè)計(jì)的積極性，降低氬氣消耗，有效節(jié)約產(chǎn)生成本至關重要。
低氬氣吹掃系統(tǒng)十大行動，確保光室UV波段測(cè)量環(huán)境。
光室充氬免除復(fù)雜的真空系統(tǒng)背景下。
高分辯率CMOS檢測(cè)器實(shí)現(xiàn)全譜分析
譜線覆蓋了所有的重要元素綜合措施，滿足所有基體和材料的分析。
高靈敏的紫外區(qū)檢測(cè)自然條件，對(duì)N的分析檢測(cè)更準(zhǔn)確設計標準。
可有效選擇元素靈敏線，保證分析的準(zhǔn)確度互動互補。
多峰擬合技術(shù)發揮重要帶動作用，有效消除譜線干擾，實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)測(cè)量意料之外。
分析軟件功能強(qiáng)大
1) 基于Windows系統(tǒng)的多國(guó)語(yǔ)言的CCD全譜圖形化分析軟件文化價值，方便實(shí)用；
2) 管理的控制整個(gè)測(cè)量過(guò)程及為用戶提供強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理能力和測(cè)試報(bào)告輸出能力；
3) 儀器可配置多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析及解決方案初步建立；
4) 軟件實(shí)現(xiàn)全譜檢測(cè)廣度和深度、智能扣干擾、扣暗電流著力提升、背景和噪聲的算法，提高儀器的分析能力傳遞；
5) 完備的自動(dòng)系統(tǒng)診斷功能融合；
6) 完善的數(shù)據(jù)庫(kù)管理功能，可方便查詢相關性、匯總數(shù)據(jù)完成的事情；
7) 智能校正算法，保證儀器穩(wěn)定可靠穩定；
8) 完備的譜線信息和干擾扣除算法改造層面，保證儀器分析更為精準(zhǔn)；
9) 適應(yīng)的Windows操作系統(tǒng)效高化。
應(yīng)用領(lǐng)域
主要技術(shù)參數(shù)
| 項(xiàng)目 | M4 |
| 檢測(cè)基體 | 多基體 |
| 光學(xué)系統(tǒng) | 帕型-龍格結(jié)構(gòu) |
| 光室結(jié)構(gòu) | 充氬循環(huán)方式 |
波長(zhǎng)范圍
| 165-580nm（可擴(kuò)展） |
| 光柵焦距 | 300mm |
| 光柵刻線 | 3600條/mm |
探 測(cè) 器
| 多CMOS檢測(cè)器 |
| 光源類型 | 可編程脈沖數(shù)字光源 |
| 儀器尺寸 | 714*558*270 |
| 儀器重量 | 40Kg |
