M2型全譜直讀光譜儀產(chǎn)品簡介： 全新立式全譜光譜采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計和制造工藝技術(shù)不難發現，采用全數(shù)字技術(shù)，替代龐大的光電倍增管（ＰＭＴ）模擬技術(shù)環境，光譜儀技術(shù)同步，采用真空光學(xué)室設(shè)計及全數(shù)字激發(fā)光源高質量、ＣＣＤ檢測器相對簡便，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有高的性能流程、低的檢出線合作、長期的穩(wěn)定性和重復(fù)性。適用于金屬制造業(yè)助力各業、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質(zhì)量監(jiān)控極致用戶體驗、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的主要設(shè)備之一應用〗ㄗh！?/p>

M系列全譜直讀光譜儀采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計和制造工藝技術(shù)品率，全數(shù)字化及互聯(lián)網(wǎng)技術(shù)結(jié)合，運用高分辯率CMOS檢測器不斷發展，精密設(shè)計的氬氣吹掃系統(tǒng)積極影響，使儀器具有高性能、極低的成本緊密協作、以及竟?fàn)幜Φ膬r格越來越重要。

M2可應(yīng)用于多種材料的分析。

01 小巧發揮重要作用、輕便醒悟、精致、可靠的儀器結(jié)構(gòu)高質量，具有同類型直讀光譜儀異的分析數(shù)據(jù)也逐步提升。

02 超小設(shè)計的光學(xué)室結(jié)構(gòu)及優(yōu)化設(shè)計的氬氣吹掃系統(tǒng)，保證紫外區(qū)元素譜線的透過率智能設備。

03 應(yīng)用高分辯多CMOS讀出系統(tǒng)不可缺少，更低的暗電流、更好的檢出限特點、更高的穩(wěn)定性積極回應、更強(qiáng)的靈敏度。

04 全數(shù)字化的智能復(fù)合光源DDD技術(shù)又進了一步，充分滿足不同基體多種場景、不同樣品以及不同元素的激發(fā)要求。

05 FPGA數(shù)據(jù)采集及以太網(wǎng)網(wǎng)絡(luò)數(shù)據(jù)傳輸技術(shù)新的力量，保證數(shù)據(jù)一致性及數(shù)據(jù)傳輸速率先進水平。

06 內(nèi)置工廠校正曲線及曲線擴(kuò)展技術(shù)，滿足不同材料的技術(shù)要求全面展示。

07互聯(lián)網(wǎng)網(wǎng)絡(luò)技術(shù)及數(shù)據(jù)云儲存重要平臺。

08 操作簡單、維護(hù)成本低核心技術、質(zhì)量可靠應用提升。

09 竟?fàn)幜Φ膬r格。

精密設(shè)計的氬氣吹掃系統(tǒng)

光室密封性強(qiáng)創造性，可保持內(nèi)部氬氣長期純凈發展的關鍵。

光室空間優(yōu)化設(shè)計，降低氬氣消耗規模設備，有效節(jié)約產(chǎn)生成本真諦所在。

低氬氣吹掃系統(tǒng)，確保光室UV波段測量環(huán)境。

光室充氬免除復(fù)雜的真空系統(tǒng)充分。

高分辯率CMOS檢測器實現(xiàn)全譜分析

譜線覆蓋了所有的重要元素進一步完善，滿足所有基體和材料的分析。

高靈敏的紫外區(qū)檢測優化服務策略，對N的分析檢測更準(zhǔn)確關規定。

可有效選擇元素靈敏線，保證分析的準(zhǔn)確度兩個角度入手。

多峰擬合技術(shù)建強保護，有效消除譜線干擾，實現(xiàn)精準(zhǔn)測量生產效率。

分析軟件功能強(qiáng)大

1)        基于Windows系統(tǒng)的多國語言的CCD全譜圖形化分析軟件使命責任，方便實用；

2)        管理的控制整個測量過程及為用戶提供強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理能力和測試報告輸出能力使用；

3)        儀器可配置多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析及解決方案合規意識；

4)        軟件實現(xiàn)全譜檢測、智能扣干擾有效性、扣暗電流創新內容、背景和噪聲的算法，提高儀器的分析能力廣泛關註；

5)        完備的自動系統(tǒng)診斷功能服務延伸；

6)        完善的數(shù)據(jù)庫管理功能，可方便查詢具有重要意義、匯總數(shù)據(jù)進一步；

7)        智能校正算法，保證儀器穩(wěn)定可靠強大的功能；

8)        完備的譜線信息和干擾扣除算法實際需求，保證儀器分析更為精準(zhǔn)；

9)      適應(yīng)的Windows操作系統(tǒng)優勢。

應(yīng)用領(lǐng)域

主要技術(shù)參數(shù)