Leica EM ACE600 是一款高真空鍍膜儀總之，真空泵采用隔膜泵和渦輪分子泵面向，無油真空系統(tǒng)，真空度可達2×10-6mbar研學體驗。鍍膜細膩均勻建設項目。內置石英膜厚檢測器，可精確控制鍍膜厚度落實落細。全自動電腦控制相結合，自動完成抽真空，鍍膜製高點項目，放氣等全過程為產業發展，一鍵操作。采用當下的觸摸屏控制資源優勢，簡單方便高效利用。
儀器可選離子濺射鍍金屬膜，滿足高分辨場發(fā)射掃描電鏡（FESEM）需求長效機製≈v實踐？蛇x碳絲蒸發(fā)鍍碳膜，用于X-射線能譜及波譜分析奮戰不懈，或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜市場開拓。還可以選擇電子束蒸發(fā)方式鍍膜，獲得極其細膩的金屬膜與碳膜大大縮短，可用于DNA投影等特殊用途要落實好。
主要技術參數(shù)：
· 可任選離子濺射模式，碳絲蒸發(fā)鍍碳模式更默契了，碳棒（熱阻）蒸發(fā)模式先進技術，電子束蒸發(fā)模式，雙濺射模式不合理波動，濺射-碳絲模式宣講手段，濺射-碳棒模式，濺
射-電子束模式積極拓展新的領域，雙電子束模式配套設備，可兼容EM VCT100冷凍傳輸系統(tǒng)更優質，可選輝光放電（用于網(wǎng)格表面親水化）
· 設計脈沖式碳絲蒸發(fā)方式，可精確控制碳膜厚度
· 內置石英膜厚檢測器推進高水平，精確控制鍍膜厚度脫穎而出，精度達0.1nm
· 全自動程序控制，自動完成抽真空生產創效，鍍膜結構，放氣等過程
· 觸摸屏控制，簡單方便
· 采用隔膜泵+渦輪分子泵優化上下，無油真空系統(tǒng)能力建設，真空度2×10-6mbar
· 濺射電流：0-150mA可調
· 方形樣品倉設計，樣品倉尺寸：200mm（寬）×150mm（深）×195mm（高）
· 樣品臺內置旋轉不斷創新，工作距離調節(jié)范圍：30mm-100mm
