光刻膠狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)由山東安尼麥特儀器有限公司精心研制高精度精密型涂布試驗(yàn)機(jī)影響力範圍，本機(jī)主要應(yīng)用于蓋板玻璃的各種涂膠作業(yè)而開發(fā)設(shè)計(jì)的專用裝置，同時(shí)也可以用于其他類似材料的涂布新創新即將到來。本涂布試驗(yàn)機(jī)邁出了重要的一步，底板采用微孔陶瓷吸附平臺(tái)，同時(shí)采用非接觸式狹縫式涂布頭設施，通過進(jìn)料壓力需求，狹縫寬度調(diào)節(jié)，以及狹縫頭與底板間隙三個(gè)因數(shù)控制濕膜厚度組合運用，同時(shí)軟件系統(tǒng)增加了高度調(diào)節(jié)與反饋系統(tǒng)更讓我明白了，大大提高了涂布精度與均勻性。

光刻膠狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)簡(jiǎn)單介紹：

狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)由山東安尼麥特儀器有限公司精心研制高精度精密型涂布試驗(yàn)機(jī)積極，本機(jī)主要應(yīng)用于蓋板玻璃的各種涂膠作業(yè)而開發(fā)設(shè)計(jì)的專用裝置充分，同時(shí)也可以用于其他類似材料的涂布。本涂布試驗(yàn)機(jī)，底板采用微孔陶瓷吸附平臺(tái)關註度，同時(shí)采用非接觸式狹縫式涂布頭橫向協同，通過進(jìn)料壓力，狹縫寬度調(diào)節(jié)敢於挑戰，以及狹縫頭與底板間隙三個(gè)因數(shù)控制濕膜厚度不斷創新，同時(shí)軟件系統(tǒng)增加了高度調(diào)節(jié)與反饋系統(tǒng)，大大提高了涂布精度與均勻性提供了遵循。

應(yīng)用場(chǎng)景：針對(duì)微米級(jí)特別是納米及亞微米級(jí)功能性涂層的涂布試驗(yàn)參與水平、墨水調(diào)試、工藝研究服務效率、小規(guī)模制樣研發(fā)等明確相關要求。

涉及行業(yè)：包括水凝膠、液態(tài)金屬統籌發展、智能包裝材料深化涉外、光電材料、光刻膠生產製造、功能涂層開展試點、微電子及半導(dǎo)體封裝等大面積涂布制備，以及氫燃料電池膜電極共同、電解水制氫膜電極推進一步、鋰電池、各種活性催化劑簡單化、異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池力度、薄膜太陽(yáng)能電池、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池系統性、有機(jī)太陽(yáng)能電池善謀新篇、OLED柔性穿戴器件、有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管,導(dǎo)電聚合物,納米線和納米管,二維材料,有機(jī)發(fā)光二極管和鈣鈦礦發(fā)光二極管便利性、鈣鈦礦光伏電池方法、鋰離子電池的電解質(zhì)和電極、染色敏感性太陽(yáng)能電池提供有力支撐、電子皮膚等器件的制備切實把製度。

由于常規(guī)實(shí)驗(yàn)室涂布試驗(yàn)機(jī)，受到刮刀調(diào)節(jié)逐步顯現，底板平整度等的影響很難達(dá)到涂布納米級(jí)膜銘記囑托，狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)，底板采用檢驗(yàn)級(jí)大理石平臺(tái)自動化裝置，同時(shí)采用非接觸式狹縫式涂布頭示範，通過進(jìn)料壓力應用前景，狹縫寬度調(diào)節(jié)，以及狹縫頭與底板間隙三個(gè)因數(shù)控制濕膜厚度運行好，同時(shí)軟件系統(tǒng)增加了高度調(diào)節(jié)與反饋系統(tǒng)首次，大大提高了涂布精度與均勻性。在國(guó)內(nèi)光學(xué)膜涂布實(shí)驗(yàn)室研發(fā)打樣階段得到了廣泛的應(yīng)用部署安排。

光刻膠狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)技術(shù)參數(shù)

1.狹縫擠出頭材質(zhì)：不銹鋼

2.狹縫擠出頭涂布寬度：10-50mm

3.狹縫擠出墊片厚度:100 μm

3.狹縫擠出墊片套裝:5 個(gè) 50毫米寬墊片或5 個(gè) 25毫米寬的墊片

4.電熱板溫度:120°C

5.行程長(zhǎng)度:10-100mm

6.平臺(tái)速度:100 μm.s-1

7.最高平臺(tái)速度:50 mm s - 1

8.注射器速度:12 μm.s-1

9.最高注射速度:5 mm.s-1

10.涂布頭與基片之間最大活動(dòng)距離:13 mm

11.管道和接頭材質(zhì):聚四氟乙烯管搖籃，高密度PP魯爾接口鎖定連接器、不銹鋼魯爾接口連接器至螺紋連接件

12.電源參數(shù)：100 - 240 V 50Hz

13.尺寸規(guī)格:380 mm x 330 mm x 220 mm

14.重量：30kg