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捷歐路JEOL BS/JEBG/EBG系列 電子槍

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捷歐路JEOL BS/JEBG/EBG系列 電子槍用于光學薄膜及電極膜等各種薄膜形成的電子束蒸鍍用電子槍/電源。 電子束蒸鍍法的特征:用電子束直接照射鍍膜材料進行加熱流程,因此熱效率高合作,能蒸發(fā)高熔點金屬、氧化物助力各業、化合物一站式服務、升華性物質等各種材料。鍍膜材料在水冷銅坩堝內被直接...

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捷歐路JEOL BS/JEBG/EBG系列 電子槍用于光學薄膜及電極膜等各種薄膜形成的電子束蒸鍍用電子槍/電源深入交流。
電子束蒸鍍法的特征:用電子束直接照射鍍膜材料進行加熱引領作用,因此熱效率高加強宣傳,能蒸發(fā)高熔點金屬、氧化物用的舒心、化合物技術發展、升華性物質等各種材料。鍍膜材料在水冷銅坩堝內被直接加熱集成,因此不會象電阻加熱式或感應加熱式那樣與坩堝發(fā)生反應重要手段。可能需要使用坩堝內襯穩定性。能迅速控制輸出像一棵樹,因而能精確地控制膜厚。與濺射法及CVD法相比去突破,能快速鍍膜是一大特征能運用。對形成1µm 以上的厚膜也很有效。
日本電子制造的電子槍/電源的特征如下
氧化物:電子束垂直照射鍍膜材料智能設備,束斑近似圓形不可缺少,具有能量密度高的特征。此外技術特點,由于標準配備了快速掃描功能提高鍛煉,非常適合蒸鍍融點高、熱傳導性低的氧化物及升華性材料凝聚力量,能獲得良好的熔痕有所提升,大面積的鍍膜區(qū)域上膜厚分布均勻,重現(xiàn)性好新的力量。
金屬:坩堝的選擇范圍很大先進水平,能進行多種、大量去創新、高速率的蒸鍍足夠的實力,還有用來抑制成膜時溫度上升的剝離工藝用電子槍緊迫性。
合金復合膜:往臨近的兩個或三個坩堝內充填不同的材料結構,使用專用的掃描控制器進行雙源或三源蒸發(fā),可以形成合金膜和復合膜高效。
如果您需要捷歐路JEOL BS/JEBG/EBG系列 電子槍及捷歐路品牌儀器溝通協調、或者其他品牌儀器,均可聯(lián)絡我司銷售部門: 體系。

 


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