PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng)設施，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案需求。 它易于放置，便于使用組合運用，且能確保工藝性能更讓我明白了。直開式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快速晶圓裝卸，是研究積極、原型設(shè)計(jì)和小批量生產(chǎn)的理想選擇探索。 它通過優(yōu)化的電極冷卻和出色的襯底溫度控制來實(shí)現(xiàn)高性能工藝。

• 直開式設(shè)計(jì)允許快速裝卸晶圓

• 出色的刻蝕控制和速率測(cè)定

• 出色的晶圓溫度均勻性

• 晶圓可達(dá)200mm

• 購置成本低

• 符合半導(dǎo)體行業(yè) S2 / S8標(biāo)準(zhǔn)

應(yīng)用

• 高質(zhì)量PECVD沉積氮化硅和二氧化硅產業，用于光子學(xué)滿意度、電介質(zhì)層、鈍化以及諸多其它用途
• 用于高亮度LED生產(chǎn)的硬掩模沉積和刻蝕

特點(diǎn)

• 小尺寸系統(tǒng)——易于安置
• 優(yōu)化了的電極冷卻——襯底溫度控制
• 高導(dǎo)通的徑向（軸對(duì)稱）抽氣結(jié)構(gòu)—— 確保提升了工藝均勻性和速率
• 增加了<500毫秒的數(shù)據(jù)記錄功能——可追溯腔室和工藝條件的歷史記錄
• 近距離耦合渦輪泵——提供*的泵送速度加快氣體的流動(dòng)速度
• 關(guān)鍵部件容易觸及——系統(tǒng)維護(hù)變得直接簡(jiǎn)單
• X20控制系統(tǒng)——大幅提高了數(shù)據(jù)信息處理能力可持續， 并且可以實(shí)現(xiàn)更快更可重復(fù)的匹配
• 通過前端軟件進(jìn)行設(shè)備故障診斷——故障診斷速度快
• 用干涉法進(jìn)行激光終點(diǎn)監(jiān)測(cè)——在透明材料的反射面上測(cè)量刻蝕深度 (例如硅上的氧化物)主要抓手，或者用反射法來確定非透明材料 (如金屬) 的邊界
• 用發(fā)射光譜（OES）實(shí)現(xiàn)較大樣品或批量工藝的終點(diǎn)監(jiān)測(cè)—— 監(jiān)測(cè)刻蝕副產(chǎn)物或反應(yīng)氣體的消耗量的變化，以及用于腔室清洗的終點(diǎn)監(jiān)測(cè)