本儀器采用非接觸方案、光學(xué)相移干涉測量方法關鍵技術，測量時(shí)不損傷工件表面，能快速測得各種工件表面微觀形貌的立體圖形深入，并分析計(jì)算出測量結(jié)果技術研究。適用于測量各種量塊、光學(xué)零件表面的粗糙度開展研究；標(biāo)尺姿勢、度盤的刻線深度；光柵的槽形結(jié)構(gòu)鍍層厚度和鍍層邊界處的結(jié)構(gòu)形貌首要任務；磁（光）盤交流研討、磁頭表面結(jié)構(gòu)測量；硅片表面粗糙度及其上圖形結(jié)構(gòu)測量等等形式。由于儀器測量精度高建設應用，具有非接觸和三維測量的特點(diǎn)，并采用計(jì)算機(jī)控制和快速分析日漸深入、計(jì)算測量結(jié)果動力，本儀器適用于各級(jí)測試、計(jì)量研究單位工礦企業(yè)計(jì)量室互動式宣講，精密加工車間效高性，也適用于高等院校和科學(xué)研究單位等。

一自動化、產(chǎn)品特點(diǎn)

本儀器采用非接觸提升、光學(xué)相移干涉測量方法，測量時(shí)不損傷工件表面不折不扣，能快速測得各種工件表面微觀形貌的立體圖形支撐能力，并分析計(jì)算出測量結(jié)果。適用于測量各種量塊高效利用、光學(xué)零件表面的粗糙度特征更加明顯；標(biāo)尺、度盤的刻線深度講實踐；光柵的槽形結(jié)構(gòu)鍍層厚度和鍍層邊界處的結(jié)構(gòu)形貌；磁（光）盤奮戰不懈、磁頭表面結(jié)構(gòu)測量市場開拓；硅片表面粗糙度及其上圖形結(jié)構(gòu)測量等等措施。

由于儀器測量精度高，具有非接觸和三維測量的特點(diǎn)要落實好，并采用計(jì)算機(jī)控制和快速分析緊密相關、計(jì)算測量結(jié)果，本儀器適用于各級(jí)測試先進技術、計(jì)量研究單位工礦企業(yè)計(jì)量室培訓，精密加工車間，也適用于高等院校和科學(xué)研究單位等宣講手段。

二重要工具、技術(shù)參數(shù)

表面微觀不平深度測量范圍

在連續(xù)表面上，相鄰二象素之間沒有大于1 / 4 波長的高度突變時(shí)：1000 一1nm

相鄰二象素之間含有大于1 / 4 波長的高度突變時(shí)：130 一1nm

測量的重復(fù)性：δRa ≤0.5nm

物鏡倍率:40X

數(shù)值孔徑:Φ 65

工作距離:0.5mm

儀器視場 目視: Φ0.25mm

攝象: 0.13×0.13mm

儀器放大倍數(shù) 目視: 500×

攝象（計(jì)算機(jī)屏幕觀察）一2500×

接收器測量列陣:1000X1000

象素尺寸:5.2×5.2µm

測量時(shí)間采樣（掃描）時(shí)間:1S

儀器標(biāo)準(zhǔn)鏡 反射率（高）: ～50 %

反射率（低）: ～4 %

照明光源:白熾燈6V 5W

綠色干涉濾光片波長:λ≒530nm

半寬度λ≒10nm

主顯微鏡升程:110 mm

工作臺(tái)升程:5 mm

X 配套設備、丫方向移動(dòng)范圍: ～10 mm

工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)范圍:360°

工作臺(tái)頃斜范圍：±6°

計(jì)算機(jī)系統(tǒng)：P4 , 2 .8G 以上非常激烈，內(nèi)存1G以上17寸純平顯示器